氣體是電子工業的“血液"，尤其在半導體制造過程中需要使用多種氣體，如氮氣、氫氣、氬氣等。在集成電路制造中氣體的占比僅次于硅片，占晶圓制造成本的13%，主要應用于薄膜、刻蝕、摻雜、氣相沉積、擴散等工藝。氣體質量流量控制器在半導體行業中主要應用于氣體供應和控制、清洗和干燥、氣體混合和純化以及氣體泄漏檢測和防護等方面，為半導體制造過程提供了精確的氣體流量測量、控制和監測。

一、清洗干燥

在半導體制造工藝中，需要對晶圓和設備進行清洗和干燥，以去除雜質和水分。氣體質量流量控制器可以用于控制清洗和干燥過程中的氣體流量，確保清潔和干燥的效果。

二、氣體混合和純化

在一些特定的半導體工藝中，需要將多種氣體按照一定比例混合使用。氣體質量流量控制器可以根據設定的比例要求，實時監測和調節不同氣體的流量，確保混合氣體的比例精確控制，也可以檢測氣體中的雜質和污染物含量，進行氣體純化。

三、化學氣相沉積工藝

在半導體化學氣相沉積CVD工藝中，通常會使用一種或多種前體氣體，這些氣體在反應室中通過化學反應產生固態薄膜材料，然后沉積在半導體晶片表面。對于不同的前體氣體，需要能夠精確地控制其流量，以確保反應的準確性和穩定性。

四、監測和控制

在半導體制造過程中，任何氣體泄漏都可能導致制造過程中的污染和故障。氣體質量流量控制器可以用于實時監測氣體流量的變化，當氣體流量超過設定閾值或突然變化時，可以發出警報并采取相應措施進行泄漏檢測和修復，保證半導體制造過程的穩定性和質量。

國產替代崛起

在半導體行業中，對于氣體的流量及壓力控制的精確度和穩定性等性能要求很高，以往大部分廠商使用進口品牌的設備以及氣體質量流量控制器MFC，尤其是半導體行業。

近幾年，由于受到限制因素影響，國產的設備商或生產商已經在逐步考慮國產品牌質量流量控制器的替代，尤其是對于大宗氣體供應系統。

奧松電子的氣體質量流量控制器MFC已經逐步參與到擴散/退火、離子注入、刻蝕、氣相沉積等大部分工藝中。有部分產品已出口到國外的相關企業，其中AS200系列氣體質量流量控制器深受好評，重復精度高達±0.2%F.S.；1×10 -10 Pa·m3 /sec He的低泄露率，氣密性好，保障生產安全；可支持多種信號輸出，包括數字信號、1～5V 模擬信號以及4～20mA模擬信號；標準開放的通訊協議為客戶自行開發控制、采集軟件提供便利；同時，產品還提供功能強大的免費客戶端上位機軟件，方便用戶調試操作。

審核編輯 黃宇