三星電子近日公開了第一季度財(cái)務(wù)報(bào)告,其中詳細(xì)介紹了旗下半導(dǎo)體相關(guān)業(yè)務(wù)的技術(shù)進(jìn)展及未來(lái)規(guī)劃。據(jù)悉,盡管整體晶圓代工業(yè)務(wù)回暖速度較慢,但晶圓廠的運(yùn)營(yíng)效率已然有所提升。
在技術(shù)研發(fā)領(lǐng)域,三星電子的3nm與2nm工藝取得顯著進(jìn)步,預(yù)計(jì)本季度內(nèi)完成2nm設(shè)計(jì)基礎(chǔ)設(shè)施的開發(fā);此外,4nm工藝的良率亦逐漸穩(wěn)定。
為適應(yīng)3D集成電路的需求,三星正在籌備4nm技術(shù),同時(shí)計(jì)劃開發(fā)適用于14nm、8nm等成熟節(jié)點(diǎn)的基礎(chǔ)設(shè)施。值得注意的是,三星仍然計(jì)劃下半年實(shí)現(xiàn)第二代3nm技術(shù)的大規(guī)模生產(chǎn),并提高2nm技術(shù)的成熟度。
在存儲(chǔ)業(yè)務(wù)方面,三星電子宣布已于本月啟動(dòng)HBM3E 8H(8層堆疊)內(nèi)存的批量生產(chǎn),并計(jì)劃本季度內(nèi)推出單堆棧容量高達(dá)36GB的HBM3E 12H產(chǎn)品。
為了滿足生成式AI市場(chǎng)的需求,三星將持續(xù)擴(kuò)大HBM的供應(yīng)。在常規(guī)DDR5領(lǐng)域,基于1bnm(12納米級(jí))制程的32Gb DDR5也將在本季度實(shí)現(xiàn)量產(chǎn)。
三星計(jì)劃通過(guò)加快產(chǎn)能爬坡來(lái)增強(qiáng)企業(yè)在高密度DDR5模組市場(chǎng)的競(jìng)爭(zhēng)力。據(jù)了解,三星1bnm 32Gb DDR5內(nèi)存于去年9月首次亮相,原計(jì)劃于2023年底量產(chǎn)。
至于NAND閃存領(lǐng)域,三星進(jìn)一步明確第9代V-NAND的QLC版本將于今年三季度實(shí)現(xiàn)量產(chǎn)。
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