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“陽春三月友相逢” Park亮相上海SEMICON CHINA 2024(3月20-3月22日)

半導體芯科技SiSC ? 來源:半導體芯科技SiSC ? 作者:半導體芯科技SiS ? 2024-03-20 16:04 ? 次閱讀
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來源:Park Systems

SEMICON CHINA 2024將于3月20-3月22日在上海舉辦,連續參展的Park Systems將以“創新 卓越 優質”為主題,攜旗下的核心產品重磅亮相此展覽會。

公司簡介速覽

Park Systems成立于1988年, 是全球首個推出商業原子力顯微鏡產品的上市公司 。Park公司成立30多年來,始終致力于納米領域的形貌&力學測量和半導體先進制程工藝的計量的新技術新產品的開發。其納米計量系統(包括 AFM 和橢偏儀)被半導體、電子、材料科學、生命科學等眾多行業的研究人員和科學家廣泛使用。

Park Systems為半導體制造計量、器件失效分析以及各種工業應用提供了一系列自動化原子力顯微鏡。其產品組合能夠滿足半導體和顯示行業的需求,提供對納米級結構的精準控制和測量,這對于器件制造和性能提升尤為重要。Park原子力顯微鏡技術所提供的測量準確性、重復性和全面性顯著提高了制成效率,并提升了終端產品的質量。

核心產品搶“鮮”看

Park NX-Wafer

用于半導體晶圓制程

·為FA和研究實驗室提供精準的原子力顯微鏡解決方案

·實現高量率的精準且高重復性的測量

·低噪聲Z探測器可精確測量原子力顯微鏡表面形貌

·使用真正非接觸模式掃描方式,實現樣品無損檢測

image.png

Park NX-3DM

自動化工業AFM用于高分辨率三維計量

·專為凹陷和懸垂結構的側壁分析進行了優化

·采用創新設計的旋轉掃描器,實現精準的3D計量

·能夠在精細的光刻膠表面進行非破壞性測量

Park NX-eAFM

·通過C-AFM和EFM實現晶圓級電學分析

·面向納米器件的電測試解決方案和納米成像能力

·對薄膜擊穿電壓及相關特性、閾值電壓的成像

Park NX-Mask

用于半導體光掩模修復

·緊密集成到產線過程中,實現即時、無縫修復

·自動化原子力顯微鏡用于表面粗糙度和圖案步高測量

·兼容自動化雙POD系統,用于EUV掩模處理

·綜合解決方案,用于缺陷檢測和修復后驗證

·準確、無損的機械缺陷去除
image.png

Park NX-Hybrid WLI

AFM和WLI聯用技術,Park NX-Hybrid WLI 應運而生!

·它結合了頂級的半導體計量技術:白光干涉儀(WLI)和原子力顯微鏡(AFM)

·WLI和AFM一起在范圍、分辨率和速度方面表現出色

·兩個物鏡可通過電動線性鏡頭更換器自動更換

Park NX-TSH

用于大型平板顯示器計量

·專為建立下一代平板顯示器生產工廠的制造商而開發

·用于OLED、LCD和2D編碼器樣品的全自動探針掃描頭

·為OLED、LCD和光掩模提供可靠且高分辨率的AFM圖像

·克服了樣品尺寸和重量的限制

售后服務優質暖心

和客戶對接中,工程師能積極參與工廠的生產規劃環節,再根據中國市場情況,去工廠對客戶的設備需求進行出廠檢查以及調試。如有需要,我們的工程師還會陪同客戶去工廠對設備進行預驗收。

當問題出現時,客戶可以通過電話、微信、網絡留言等多種方式聯系到我們。如果條件允許,我們不僅可以進行視頻協助,甚至可以派遣就近人員上門處理。在中國,我們的備件倉庫可以實現80%以上的本土維修

在Park Systems,我們致力于向全球客戶提供高水準的服務質量,并提供全面的技術支持,幫助客戶實現他們的目標。我們的專業技術團隊隨時提供Park原子力顯微鏡安裝、操作等相關方面的幫助。我們承諾及時、有效地解決客戶的相關疑問。

審核編輯 黃宇

聲明:本文內容及配圖由入駐作者撰寫或者入駐合作網站授權轉載。文章觀點僅代表作者本人,不代表電子發燒友網立場。文章及其配圖僅供工程師學習之用,如有內容侵權或者其他違規問題,請聯系本站處理。 舉報投訴
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