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同軸光源 助力機(jī)器視覺清晰成像!

志強(qiáng)視覺科技 ? 2024-01-20 08:34 ? 次閱讀
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同軸光源Coaxial Light

機(jī)器視覺中,常借助光源來提高成像效果。同軸光源作為一種輔助光源,可用于被測(cè)物表面平整的情況下。根據(jù)同軸光源的特點(diǎn),只有平整的物面才能較好的將光反射到鏡頭中。不平整的物面上的光被斜著反射到其他地方,因此會(huì)在圖像中呈現(xiàn)暗色。因此那些不平整的地方,才能夠較好的凸顯出來。

9f7a3b46-b72b-11ee-aa22-92fbcf53809c.jpgCCS光源LFV3系列產(chǎn)品圖

光源通過漫射板發(fā)散打到半透半反射分光片上,該分光片將光反射到物體上,再由物體反射到鏡頭中。由于物體反射后的光與相機(jī)處于同一個(gè)軸線上,因此,此種方式的光源被稱之為同軸光源。它有兩大作用:

篩選與相機(jī)同軸的光線

由于其特殊的光學(xué)設(shè)計(jì),能夠同時(shí)篩選射向物方和像方的光線,使用得當(dāng)可以讓機(jī)器視覺檢測(cè)更加便捷清晰。

幫助視覺系統(tǒng)捕捉特征

可以通過篩選光線,通過明暗的對(duì)比,凸顯被測(cè)物特征。

使用同軸光源應(yīng)該注意:

同軸光不能離物體太近,否則會(huì)因?yàn)槠浒l(fā)光面的漏光而導(dǎo)致光面不是漫射的均勻光。由于中間有塊半透半反射玻璃,且當(dāng)同軸光用于物體和鏡頭之間時(shí),會(huì)影響成像的精度。其可能導(dǎo)致邊緣變虛,不夠銳利。

構(gòu)成例

LFV3-100

構(gòu)成例9f8ee7bc-b72b-11ee-aa22-92fbcf53809c.png

CCS的LFV3系列,通過使用半透鏡,可使LED擴(kuò)散光落射在相對(duì)于相機(jī)軸的同軸上。

成像實(shí)例

金屬端口保護(hù)蓋的刻印字符成像

9fab190a-b72b-11ee-aa22-92fbcf53809c.jpg

內(nèi)容:字符識(shí)別

被測(cè)物:端口保護(hù)蓋

方案前:LED條形光源

方案后:LFV3-50RD

結(jié)果:強(qiáng)調(diào)刻印字符

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9fde6af8-b72b-11ee-aa22-92fbcf53809c.jpg

如上圖所示,被測(cè)物金屬端口保護(hù)蓋在使用條形光源時(shí)難以讀取表面的刻印字符,而應(yīng)同軸光源LFV3-50RD(A)時(shí),可以抑制表面凹凸的影響,使刻印字符清晰的成像。

基板的通孔成像

內(nèi)容:外觀檢測(cè)

被測(cè)物:基板

方案前:LED環(huán)形光源

方案后:LFV3-100RD(A)

結(jié)果:均勻度的提高

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a01d207c-b72b-11ee-aa22-92fbcf53809c.jpg

如上圖所示,被測(cè)物基板在使用環(huán)形光源時(shí)難以使底層與通孔之間差異成像,而應(yīng)同軸光源LFV3-100RD(A)時(shí),可以使底層與通孔之間差異清晰的成像。

應(yīng)用領(lǐng)域

同軸光源一般是應(yīng)用在反光平面劃痕檢測(cè)、包裝條碼識(shí)別,烤瓷表面檢測(cè)、平面瑕疵檢測(cè)、金屬板表面檢測(cè)、PCB板引導(dǎo)定位等。例如芯片、晶片表面檢測(cè),一維碼、二維碼識(shí)別,物體表面劃傷,文字等檢測(cè),金屬表面、軸承、飲料罐上刻印字符檢測(cè),MARK點(diǎn)定位等等。

在工業(yè)檢測(cè)、自動(dòng)化、電子通訊、半導(dǎo)體、生物醫(yī)療、科學(xué)研究等領(lǐng)域運(yùn)用廣泛。

聲明:本文內(nèi)容及配圖由入駐作者撰寫或者入駐合作網(wǎng)站授權(quán)轉(zhuǎn)載。文章觀點(diǎn)僅代表作者本人,不代表電子發(fā)燒友網(wǎng)立場(chǎng)。文章及其配圖僅供工程師學(xué)習(xí)之用,如有內(nèi)容侵權(quán)或者其他違規(guī)問題,請(qǐng)聯(lián)系本站處理。 舉報(bào)投訴
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