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半導體核心技術外流中國 韓研議提高相關刑責

微云疏影 ? 來源:綜合整理 ? 作者:綜合整理 ? 2024-01-04 09:54 ? 次閱讀
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韓國致力于發展半導體技術,該行業在其經濟和國防等領域具有關鍵影響。然而,近年來,已有多起技術外流事件被發現,這引起了社會各界對知識產權保護的高度關注。

近期,韓國主要的半導體制造三星電子曝出重大泄密案,員工和供應商泄露了公司的重大技術信息,引發巨大經濟損失。據悉,兩名涉事員工金某和方某已被當地檢方起訴,他們涉嫌在2016年向中國長鑫存儲(CXMT)透露了三星集團18納米DRAM制程秘訣。

根據調查,金某在跳槽到長鑫存儲后,泄露了三星公司的蒸鍍相關資料以及7項關鍵技術信息,獲得了數千億韓元的收益,更以5億韓元的稅后收入從三星及相關廠家挖走了20余位技術人員。

另一方面,方某作為為三星供應半導體設備的高管,協同金某將含有關鍵設計技術的公司資料泄露給了長鑫存儲。

值得注意的是,就在此案公開的半年前,一位負責三星電子投資的常務涉嫌接受中資,計劃在中國建立“復制版本”的三星半導體工廠,該行為推斷至少導致三星電子損失3000億韓元(約合新臺幣73億元)。

據報道,韓國最高審判機構量刑委員會考慮針對此類重大知識產權侵權案件,提議調整相關的法律法規,并將其列為首要任務;且韓國的警察部門也提出,由于此類技術外流造成的損失及造成損失的規模難以估測,且肇事人往往受到輕微的懲罰,因此需要升級對這類違法行為的懲罰標準。

此外,檢方還指出,目前的法律體系將技術外流分為在國內流失和流向國外兩種情況,但是惡性程度不同,需要進一步細化為5到6種標準。

盡管諸如三星電子這樣的大型企業已經加強了保護商業秘密的管理和措施,但保護知識產權的重任不能僅僅依靠企業自身,員工的道德和法律觀念也至關重要。

聲明:本文內容及配圖由入駐作者撰寫或者入駐合作網站授權轉載。文章觀點僅代表作者本人,不代表電子發燒友網立場。文章及其配圖僅供工程師學習之用,如有內容侵權或者其他違規問題,請聯系本站處理。 舉報投訴
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