EBSD技術(shù)是一種常用的材料顯微技術(shù)，全稱電子背散射衍射。它通過測量反射電子的角度和相位差來確定樣品的晶體結(jié)構(gòu)和晶粒取向等特征。與傳統(tǒng)的掃描電鏡技術(shù)相比，EBSD技術(shù)具有更高的空間分辨率，可以獲得亞微米級的晶體學(xué)數(shù)據(jù)。

EBSD技術(shù)的主要特點是在保留掃描電子顯微鏡常規(guī)特征的同時，利用電子回旋衍射效應(yīng)對反射電子進行衍射分析，以獲得晶體學(xué)信息。該技術(shù)不僅可以提供樣品的晶體結(jié)構(gòu)和晶粒取向等信息，而且可以同時獲得晶粒尺寸和形貌等重要參數(shù)。因此，在材料科學(xué)領(lǐng)域，EBSD技術(shù)已成為不可或缺的工具，被廣泛應(yīng)用于材料結(jié)構(gòu)和性能的研究。

電子背散射衍射花樣(EBSD)

在掃描電子顯微鏡(SEM)中，電子束入射到樣品上時，與樣品的相互作用會產(chǎn)生多種效應(yīng)。其中之一是電子在規(guī)則排列的晶格面上的衍射。所有晶面上的衍射構(gòu)成了所謂的“衍射圖樣”，它可以被認(rèn)為是晶體中原子平面之間的角度關(guān)系圖。

衍射花樣包含了晶系(如立方、六方等)的對稱性信息。此外，晶面和晶帶軸之間的夾角與晶系類型和晶體的晶格參數(shù)有直接對應(yīng)關(guān)系。這些數(shù)據(jù)可用于通過EBSD技術(shù)對晶相進行鑒定。對于一個已知的晶相，衍射圖樣的取向直接對應(yīng)于晶體的取向。

EBSD系統(tǒng)組成

為了實現(xiàn)EBSD技術(shù)，我們需要一套系統(tǒng)設(shè)備，其基本要求包括掃描電子顯微鏡和EBSD系統(tǒng)。

該系統(tǒng)設(shè)備的核心是掃描電子顯微鏡，它產(chǎn)生高能電子束并將其聚焦于樣品表面。EBSD系統(tǒng)的硬件部分通常由一個敏感的CCD攝像機和一個圖像處理系統(tǒng)組成。CCD相機用于捕獲掃描電子顯微鏡產(chǎn)生的反射電子圖像。圖像處理系統(tǒng)用于對圖像進行模式平均和背景相減，提取清晰的衍射圖樣。

通過該系統(tǒng)和設(shè)備，EBSD技術(shù)可以獲得精確的衍射圖樣數(shù)據(jù)，進而分析晶體的結(jié)構(gòu)和取向。這為材料研究提供了重要的工具和手段。

在掃描電子顯微鏡中，獲得電子背散射衍射圖樣的基本操作非常簡單。為了增強背散射(即衍射)信號，樣品相對于入射電子束以較大的角度傾斜。通過這種方式，EBSP信號被充分增強以被熒光屏拾取。該顯示屏與CCD攝像機相連，可直接在顯示屏上觀察EBSP，也可將圖像放大并存儲后在顯示屏上觀察。。軟件程序以最小的輸入量，就可以對圖形進行校準(zhǔn)，從而獲得晶體學(xué)信息。目前，最快的EBSD系統(tǒng)每秒可測量700~900個點。

現(xiàn)代的EBSD系統(tǒng)和探針可以同時安裝在掃描電子顯微鏡上。這意味著在快速獲得樣品取向信息的同時，還可以進行成分分析。這使得研究人員能夠在同一臺設(shè)備上獲得更全面的樣品表征數(shù)據(jù)。

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