佳能計劃將新芯片制造設備的價格定在asml最先進的***（optic grapher）費用的非常小的部分，因此正在尖端設備領域取得進展。

佳能首席執行官Fujio Mitarai表示，納米印花的新技術將為微型半導體制造企業開辟生產最尖端芯片的道路。該產品的價格預計將低于asml用euv設備一位數，但目前還沒有最終確定價格。

據悉，asml是唯一的極紫外光刻工具供應商，極紫外線刻印工具是世界上最先進的芯片制造機器，每臺價值數億美元。euv設備是數十年研究和投資的產物，是大規模生產最快、能源效率最高的芯片所必需的。

由于在技術供應鏈中占據重要位置，目前能夠投資到這些工具上的現金充足的企業只是少數。美國向本國的同盟國施壓，要求限制技術外流，最終asml被中國顧客禁止出口euv系統。

我們把希望寄托在佳能上月推出的新工藝上。日本今年7月擴大了對半導體制造出口的限制，但并未明確提及納米壓花技術。Mitarai方面表示，佳能公司將無法將這些機器運送到中國。除了14納米技術以外的所有產品都被理解為禁止出口。

佳能和Dai Nippon Printing Co.股份公司。與存儲芯片制造企業被服合作研究納米壓花技術已有近10年的時間。與極紫外光刻技術的反射光不同，佳能技術在晶片上直接印刷電路圖案，制造出幾何形狀的晶片，雖然速度慢得多，但符合最先進的節點。得益于新機器，半導體制造商可以降低對轉包工廠的依賴度，臺積電公司和三星電子等轉包半導體制造商也可以批量生產更多的芯片。佳能表示，這臺機器的功率只有euv產品的十分之一。

Mitarai表示：“雖然不認為納米壓紋技術會代替euv，但相信會創造出新的機會和需求，已經有很多顧客前來咨詢。”