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繼半導體后 韓國將顯示專利申請指定為優(yōu)先審查對象

微云疏影 ? 來源:綜合整理 ? 作者:綜合整理 ? 2023-11-01 09:59 ? 次閱讀
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知識產(chǎn)權機構韓國特許廳31日表示,從11月1日開始的一年時間里,將國內(nèi)研究開發(fā)和生產(chǎn)的顯示器領域的專利申請指定為優(yōu)先審查對象。

其中包括與顯示器材料、配件、裝備、制造、設計技術直接相關的申請、在國內(nèi)生產(chǎn)或準備生產(chǎn)顯示器相關產(chǎn)品、裝備等的企業(yè)的申請、與顯示器相關的國家研究開發(fā)(r&d)事業(yè)的成果相關的申請等。

專利廳預計,通過該制度,平均需要16個月左右的一般專利審查周期將減少到平均2個月以內(nèi)。

與此同時,將于10月31日結束的半導體領域的優(yōu)先審查對象的指定也將延長1年。如果申請與半導體材料、零部件、裝備、制造、設計技術直接相關的專利,就可以優(yōu)先接受審查。

另外,考慮到在申請優(yōu)先審查時,很難預測專利分類(cpc)是否合適的情況較多,決定刪除現(xiàn)有的半導體相關專利分類條件。

據(jù)悉,在顯示器領域的國際專利糾紛不斷深化的情況下,此舉是為了支援韓國企業(yè)盡快獲得專利。

聲明:本文內(nèi)容及配圖由入駐作者撰寫或者入駐合作網(wǎng)站授權轉載。文章觀點僅代表作者本人,不代表電子發(fā)燒友網(wǎng)立場。文章及其配圖僅供工程師學習之用,如有內(nèi)容侵權或者其他違規(guī)問題,請聯(lián)系本站處理。 舉報投訴
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