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東方晶源電子束檢測項目榮登2022“科創中國”先導技術榜

微云疏影 ? 來源:東方晶源 ? 作者:東方晶源 ? 2023-10-09 14:33 ? 次閱讀
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日前,2023“科創中國”年度會議上,中國科協正式發布了2022年“科創中國”系列榜單。經初評、終評,遴選公示多個環節,東方晶源申報的“電子束硅片圖形缺陷檢測與關鍵尺寸量測設備關鍵技術及應用”項目榮登“科創中國”先導技術榜。

“科創中國”系列榜單由中國科協推出,是“科創中國”建設的一項引領性、標志性工作,著力打造科技創新驅動高質量發展的風向標,圍繞服務國家重大戰略需求,促進創新鏈和產業鏈深度融合,為前沿技術的轉化和產業落地起到帶動和示范作用。此次榮登“科創中國”先導技術榜,再次證明東方晶源在電子束檢測領域具有創新性、戰略性、引領性、突破性,技術達到一定成熟度。

電子束缺陷檢測設備(EBI)和關鍵尺寸量測設備(CD-SEM)是集成電路制造中用于良率監控的關鍵設備,對于提高集成電路制造企業的產品良率具有重要意義。經過多年技術攻關,東方晶源突破了集成電路制造檢測設備的高速高精度硅片傳輸定位、高速圖像像差補償、自動缺陷檢測和智能分類、小線寬尺寸量測等多項關鍵技術。截至目前,旗下EBI、CD-SEM均已通過產線驗證并進入Fab量產,同時獲得多家客戶重復訂單。

EBI設備使用高掃描速度、高束流的電子束對硅片表面進行成像,隨后通過智能算法檢測出電性和物理缺陷。東方晶源EBI產品(SEpA-i515)可解決在28nm及以上制程的缺陷檢測問題,量產可靠性達到90%以上,使用率達到80%以上,適用對象包括但不限于邏輯芯片、閃存存儲芯片制造等。

CD-SEM設備使用高分辨率、高穩定性的電子束對硅片表面進行成像,隨后通過豐富的量測算法得到關鍵尺寸信息。東方晶源新一代CD-SEM產品(SEpA-c410)量測結果和重復性可以達到國際主流設備的容差范圍,已解決28nm/40nm制程中線寬大于90nm的圖形量測需求,設備可靠性達93%。同時更小線寬量測已通過測試驗證,持續助力幫助客戶解決更小、更高標準的圖形量測問題。

東方晶源從創立伊始便聚焦于電子束檢測領域,經過數年技術攻關,成功解決多項關鍵技術難題,填補國內相關技術空白并領跑國內行業發展。本次入選“科創中國”先導技術榜,是國家科技領域對東方晶源技術實力和取得成績的高度認可。未來,東方晶源將不忘初心,充分發揮在電子束檢測領域的技術積累和產業化經驗,不斷深耕,開拓創新,向更多檢測領域積極布局,與產業鏈上下游企業共同攜手,加速推進我國集成電路制造自主可控。

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