9月14日，蘇大維格在投資者互動平臺上表示，公司的***已向國內領先芯片企業實現銷售，并向日本、韓國、以色列等國家實現出口。同時，公司向國內相關芯片***制造企業提供了位置追蹤光柵尺部件。

據介紹，目前蘇大維格正在重點擴大微納米光學技術/產品。國家文件和證明書中的防偽材料、電子紙張和反射式液晶電光材料、ar/mr和ar-hud衍射材料、透明顯示面板、芯片光刻定位光柵材料。可應用于板半導體，集成電路，光處理電鍍設備，高端掩模，光芯片，光通信器件，光芯片等領域。

蘇達維他獨立微納米光學核心制造設備——***及納米壓印的光刻設備研究開發，微納米光學研究開發和生產制造的基礎技術平臺體系，微納米光學技術新領域應用。

制程越先進，***光柵尺的周期精度要求越高，如28nm制程的***要求的光柵尺周期精度小于2nm。據介紹，蘇大維格相關產品周期精度小于1nm。

2023年，蘇大維格所屬的行業觸底，開始出現恢復的跡象。蘇大維格表示，公司將以自身的技術優勢為基礎，提高高附加值產品的比重。同時，采取多種措施，積極推進合理控制公司各種成本和費用，降低成本，提高效益的措施。蘇大維格目前訂單及經營狀況正常，其中設備類訂單增長較快。