近日，納晶科技全球首發(fā)最高分辨率（300PPi）的噴墨打印主動式矩陣量子點(diǎn)發(fā)光二極管（AM-QLED）顯示屏，這意味著納晶AM-QLED技術(shù)量產(chǎn)進(jìn)程又邁出了里程碑式的一步。

傳統(tǒng)量子點(diǎn)背光技術(shù)是用量子點(diǎn)材料制成量子點(diǎn)膜或量子點(diǎn)擴(kuò)散板來賦能液晶產(chǎn)品實(shí)現(xiàn)色域的提升。與之不同的是，AMQLED顯示屏基于量子點(diǎn)“電致發(fā)光”原理，采用了新型氧化物TFT和噴墨打印技術(shù)，頂發(fā)射器件結(jié)構(gòu)，無需背光源，實(shí)現(xiàn)真正的“主動式量子點(diǎn)自發(fā)光全彩顯示”。

量子點(diǎn)材料，是尺寸在1nm-100nm之間，具有“量子限域效應(yīng)”的半導(dǎo)體納米晶。它具有可溶液加工、化學(xué)/光學(xué)/電光穩(wěn)定性優(yōu)異、發(fā)光峰位隨尺寸可調(diào)、熒光光譜窄、熒光量子產(chǎn)率高等一系列優(yōu)異的特點(diǎn)。將其應(yīng)用于顯示領(lǐng)域時，展現(xiàn)出色域廣（完美適配BT2020的標(biāo)準(zhǔn)）、響應(yīng)速度快（微秒級）、驅(qū)動電壓低（功耗低）等各類優(yōu)秀的特性。

近年來，噴墨打印技術(shù)一直受限于分辨率的問題難以應(yīng)用于中小尺寸。使用噴墨打印制備高分辨率產(chǎn)品具備極大的挑戰(zhàn)，需要解決各種潛在的問題，例如打印精度相對較低、像素間串色、成膜均勻性差等多項(xiàng)技術(shù)難題。為了攻克這一難關(guān)，納晶光電研發(fā)團(tuán)隊(duì)通過獨(dú)特的像素設(shè)計(jì)在保證高分辨的打印同時降低了對打印精度的要求，并通過優(yōu)化打印工藝解決串色問題，同時調(diào)配適合打印的墨水配方及優(yōu)化干燥工藝解決成膜均勻性的問題。最終，在兩條試驗(yàn)線的基礎(chǔ)上，采用氧化物TFT背板，制備出目前噴墨打印最高分辨率（300PPi）的AM-QLED DEMO，顯示峰值亮度達(dá)到1000nit，色域超過110% NTSC。

納晶科技長期堅(jiān)持科技創(chuàng)新，繼自主研發(fā)100ppi、150ppi等多款電致發(fā)光AMQLED顯示屏后，再一次引領(lǐng)了量子點(diǎn)顯示的行業(yè)技術(shù)發(fā)展方向，300ppi噴墨打印AMQLED顯示樣機(jī)的行業(yè)首發(fā)，標(biāo)志著納晶AMQLED技術(shù)在打印工藝端的產(chǎn)業(yè)化工藝驗(yàn)證逐步走向成熟，進(jìn)一步助力中國顯示實(shí)現(xiàn)引領(lǐng)的跨越式發(fā)展。

值得一提的是，使用納晶量子點(diǎn)制備的QLED，藍(lán)綠光QLED效率為目前已知公開報(bào)道最高水平，綠光QLED EQE達(dá)到28.7%，藍(lán)光QLED EQE達(dá)到21.9%，綠光QLED壽命達(dá)到了T95 200h@10000nit。同時，納晶還布局了光刻工藝技術(shù)路線，未來可實(shí)現(xiàn)在顯示領(lǐng)域的全尺寸覆蓋。據(jù)悉，“十三五”顯示方向總體實(shí)現(xiàn)突破印刷OLED/QLED/電子紙發(fā)光與顯示材料、印刷TFT材料與器件的關(guān)鍵共性技術(shù)，而十四五期間將要實(shí)現(xiàn)產(chǎn)業(yè)化，納晶參與了國家十三五/十四五重點(diǎn)研發(fā)計(jì)劃，其中十三五項(xiàng)目獲得A級評定，預(yù)期在十四五期間建設(shè)全球首條具有量產(chǎn)能力的AM-QLED印刷顯示示范線。

中國雖已是全球最大的顯示行業(yè)的供應(yīng)基地，但距離“顯示強(qiáng)國”目標(biāo)仍存在一定差距，其中最大瓶頸在于部分關(guān)鍵性材料和裝備仍然依賴進(jìn)口。特別是面對國際顯示產(chǎn)業(yè)競爭日趨激烈當(dāng)下，對中國整個顯示產(chǎn)業(yè)鏈、供應(yīng)鏈也敲響了警鐘，對材料和設(shè)備的國產(chǎn)化、本地化的需求迫在眉睫，納晶在量子點(diǎn)新材料及電致發(fā)光QLED的重要進(jìn)展，讓我們看到了中國顯示產(chǎn)業(yè)崛起的希望。

審核編輯 黃宇