1月29日，據韓國媒體報道，荷蘭半導體制造設備企業ASML 25日（當地時間）表示，可以繼續向中國出口深紫外線（DUV）曝光設備。

當天，首席執行官彼得·溫克寧表示，目前政府層面尚無新的出口限制措施，“我們可以繼續（向中國）發貨DUV設備”。

DUV曝光設備是ASML獨家生產的極紫外線（EUV）曝光設備的舊款型號，雖然不是尖端設備，但在智能手機和電動汽車、電腦等領域使用的半導體制造中使用較多。

美國去年10月為牽制中國半導體崛起，宣布對中國實施尖端半導體和半導體制造設備出口限制措施，拜登政府隨后要求荷蘭、日本、韓國等所謂半導體強國參與出口管制。

據悉，拜登總統17日在白宮會見荷蘭首相馬克·呂特時，也直接討論了對華半導體出口管制。

雖然當時對話的具體內容尚未公開，但有推測認為，荷蘭政府可能沒有要求對DUV設備進行出口管制，因為已經限制了對華出口EUV設備。

中國大陸是繼臺灣省和韓國之后的第三大ASML客戶，據悉，以2021年為準，占ASML全年銷售額的14.7%。

維尼克樂觀地表示，今年暗淡的經濟前景和不斷積累的半導體庫存令人擔憂，但同時客戶期待經濟條件在今年年底前好轉，中國的經濟復蘇有望實現，“這意味著需求可能會繼續保持高位”。

當天，ASML公布了去年第四季度凈利潤18.2億歐元，超過了專家的預測（17億歐元）。這一數字比前一年的17.7億歐元有所增加。第四季度的銷售額為64.3億歐元，也超過了專家預測的63.8億歐元。季度毛利比一年前的54.2%有所減少，為51.5%。

2022年全年凈利潤為56.2億歐元，較前一年的58.8億歐元有所下降。全年凈銷售額為212億歐元，比一年前的186.1億歐元有所增加。

審核編輯 ：李倩