根據 Gartner 分析師 Alan Priestley 的預測，0.55 NA EUV 光刻機單價將翻番到 3 億美元（約合 20 億元人民幣）。

即便如此，0.55 NA EUV 光刻機還是得到了芯片廠商的火熱預購。畢竟，這是研發 2nm 工藝的芯片的必選項。

隨著 0.55 NA EUV 光刻機量產提上日程，芯片廠商的“2nm 工藝戰”也將徹底打響。

最先進的節點92%來自中國臺灣臺積電，臺積電在開發2納米芯片的量產技術方面處于領先地位。2019年，臺積電便宣布啟動2nm工藝的研發，使其成為第一家宣布開始研發2nm工藝的公司。

就在今年6月 5日臺積電宣布將投資1 萬億新臺幣擴大2nm工藝芯片的產量。

臺積電的2nm開發已經走上正軌，魏哲家表示，臺積電2納米技術去年已經進入技術開發階段，著重于測試載具的設計與實作、光罩制作、以及硅試產。

同為美國公司的英特爾公司也在進行 2 納米工藝的研發。據英特爾的最新路線圖，2024 年上半年英特爾的Intel 20A（20 埃 = 2nm）工藝將亮相，新節點將帶來 15% 的性能提升。

早先日本已經吸引了臺積電赴日本建立晶圓廠，但該工廠將只生產從10nm到20nm 范圍的不太先進的半導體。此次啟動與美國的合作，也代表了日本向2nm先進工藝進擊的決心。

文章綜合AI前線、半導體觀察

編輯：黃飛