光刻機的曝光方式
光刻機的曝光方式主要有三種，分別是接觸式曝光、非接觸式曝光和投影式曝光。
接觸式曝光就是將掩膜與還沒加工基片的光膠層直接接觸并進行的曝光；
非接觸式曝光是指掩膜和基片的光膠層不直接接觸來實現(xiàn)圖形復印的曝光；
投影式曝光是指掩膜與基片不直接接觸，但用投影儀分方式來實現(xiàn)圖形轉(zhuǎn)移。
審核編輯：姚遠香
聲明：本文內(nèi)容及配圖由入駐作者撰寫或者入駐合作網(wǎng)站授權(quán)轉(zhuǎn)載。文章觀點僅代表作者本人，不代表電子發(fā)燒友網(wǎng)立場。文章及其配圖僅供工程師學習之用，如有內(nèi)容侵權(quán)或者其他違規(guī)問題，請聯(lián)系本站處理。
舉報投訴
-
曝光
+關注
關注
0文章
24瀏覽量
18596 -
光刻機
+關注
關注
31文章
1199瀏覽量
48920
發(fā)布評論請先 登錄
相關推薦
熱點推薦
俄羅斯亮劍：公布EUV光刻機路線圖，挑戰(zhàn)ASML霸主地位？
? 電子發(fā)燒友網(wǎng)報道（文/吳子鵬）?在全球半導體產(chǎn)業(yè)格局中，光刻機被譽為 “半導體工業(yè)皇冠上的明珠”，而極紫外（EUV）光刻技術更是先進制程芯片制造的核心。長期以來，荷蘭 ASML 公司幾乎壟斷
AI需求飆升！ASML新光刻機直擊2nm芯片制造，尼康新品獲重大突破
*1(L/S*2)高分辨率。扇出型面板級封裝（FOPLP）技術為何會獲得臺積電、三星等代工大廠的青睞？比較傳統(tǒng)的光刻機設備，尼康DSP-100的技術原理有何不同？能解決AI芯片生產(chǎn)當中的哪些痛點問題？ 針對2nm、3nm芯片制造難題，光刻機龍頭企業(yè)ASML新款
壟斷 EUV 光刻機之后，阿斯麥劍指先進封裝
電子發(fā)燒友網(wǎng)綜合報道 當全球半導體產(chǎn)業(yè)陷入 “先進制程競賽” 的白熱化階段，極紫外（EUV）光刻機作為高端芯片制造的 “皇冠上的明珠”，成為決定產(chǎn)業(yè)格局的核心力量。荷蘭阿斯麥（ASML）作為全球唯一
澤攸科技 | EBL和EUV光刻機有何區(qū)別？如何影響半導體行業(yè)？
從技術路徑上看，電子束光刻和大家熟悉的EUV光刻并不是同一類問題的解法。電子束光刻本質(zhì)上是一種直接寫入技術，利用聚焦電子束在抗蝕劑上逐點曝光，通過電磁控制精確描繪圖形。這種
光刻機的“精度錨點”：石英壓力傳感器如何守護納米級工藝
在7納米、3納米等先進芯片制造中，光刻機0.1納米級的曝光精度離不開高精度石英壓力傳感器的支撐，其作為“隱形功臣”，是保障工藝穩(wěn)定、設備安全與產(chǎn)品良率的核心部件。本文聚焦石英壓力傳感器在光刻機中
國產(chǎn)高精度步進式光刻機順利出廠
近日，深圳穩(wěn)頂聚芯技術有限公司（簡稱“穩(wěn)頂聚芯”）宣布，其自主研發(fā)的首臺國產(chǎn)高精度步進式光刻機已成功出廠，標志著我國在半導體核心裝備領域取得新進展。 此次穩(wěn)頂聚芯出廠的步進式光刻機屬于WS180i
今日看點丨全國首臺國產(chǎn)商業(yè)電子束光刻機問世；智元機器人發(fā)布行業(yè)首個機器人世界模型開源平臺
全國首臺國產(chǎn)商業(yè)電子束光刻機問世，精度比肩國際主流 ? 近日，全國首臺國產(chǎn)商業(yè)電子束光刻機"羲之"在浙大余杭量子研究院完成研發(fā)并進入應用測試階段。該設備精度達到0.6nm，線寬
發(fā)表于 08-15 10:15
?3110次閱讀
全球市占率35%，國內(nèi)90%！芯上微裝第500臺步進光刻機交付
? 電子發(fā)燒友網(wǎng)綜合報道，近日，上海芯上微裝科技股份有限公司（簡稱：芯上微裝，英文簡稱：AMIES）第500臺步進光刻機成功交付，并舉辦了第500臺 步進光刻機 交付儀式。 ? ? 光刻是半導體器件
發(fā)表于 08-13 09:41
?2326次閱讀
佳能9月啟用新光刻機工廠，主要面向成熟制程及封裝應用
7 月 31 日消息，據(jù)《日經(jīng)新聞》報道，日本相機、打印機、光刻機大廠佳能 (Canon) 位于日本宇都宮市的新光刻機制造工廠將于 9 月正式投入量產(chǎn)，主攻成熟制程及后段封裝應用設備，為全球芯片封裝
改善光刻圖形線寬變化的方法及白光干涉儀在光刻圖形的測量
的應用。 改善光刻圖形線寬變化的方法 優(yōu)化曝光工藝參數(shù) 曝光是決定光刻圖形線寬的關鍵步驟。精確控制曝光劑量，可避免因
ASML官宣：更先進的Hyper NA光刻機開發(fā)已經(jīng)啟動
電子發(fā)燒友網(wǎng)綜合報道，日前，ASML 技術高級副總裁 Jos Benschop 表示，ASML 已攜手光學組件獨家合作伙伴蔡司，啟動了 5nm 分辨率的 Hyper NA 光刻機開發(fā)。這一舉措標志著
發(fā)表于 06-29 06:39
?2044次閱讀
電子直寫光刻機駐極體圓筒聚焦電極
電子直寫光刻機駐極體圓筒聚焦電極
隨著科技進步，對電子顯微鏡的精度要求越來越高。電子直寫光刻機的精度與電子波長和電子束聚焦后的焦點直徑有關，電子波長可通過增加加速電極電壓來減小波長，而電子束聚焦后
發(fā)表于 05-07 06:03
成都匯陽投資關于光刻機概念大漲，后市迎來機會
進制程領域，曝光波長逐漸縮短至13.5nm，光刻技術逐步完善成熟。2024年光刻機市場的規(guī)模為230億美元。2025年光刻機市場的規(guī)模預計為252億美元。 【
不只依賴光刻機！芯片制造的五大工藝大起底！
在科技日新月異的今天，芯片作為數(shù)字時代的“心臟”，其制造過程復雜而精密，涉及眾多關鍵環(huán)節(jié)。提到芯片制造，人們往往首先想到的是光刻機這一高端設備，但實際上，芯片的成功制造遠不止依賴光刻機這一單一工具。本文將深入探討芯片制造的五大關鍵工藝，揭示這些工藝如何協(xié)同工作，共同鑄就了
工商網(wǎng)監(jiān)
評論