全球通訊頻控器件領導者泰晶科技最新研制的用于光刻工程的高精度配套設備—全自動晶圓調(diào)頻及測選機，近日又取得新突破，該設備適用于光刻晶圓頻率調(diào)整及分測，配合基于半導體技術的光刻制程量產(chǎn)及質(zhì)量提升。這一設備的研制成功，不僅填補了行業(yè)空白，而且保證了關鍵性技術的保密性，為公司正在進行的大規(guī)模擴產(chǎn)提供了更優(yōu)的方案。 該設備采用特定的光譜取代原有光源，使用全新的測試線路及測量方式，大幅提高了設備的精度及效率。目前使用設備頻率調(diào)整精度可達±5PPM，合格率98.5％以上，各項指標達到國際先進水平。擁有自主知識產(chǎn)權的設備研發(fā)，使公司具有持續(xù)創(chuàng)新能力，經(jīng)過設備升級，可加工更小型的1毫米系列產(chǎn)品。

該設備的研發(fā)成功不僅極大提高了產(chǎn)品品質(zhì)及生產(chǎn)效率，而且設備性能優(yōu)勢得到日本同行的高度認可。目前已交付多套給某全球著名同行，得到該全球巨頭同行的高度評價。

早在十一年前，我司領導高瞻遠矚，幾乎與全球巨頭同步開展半導體光刻工藝在壓電晶體行業(yè)的研究，同時開始一系列相關裝備的自主研制。幾十道工序的半導體工藝關鍵裝備，經(jīng)過近十代設計更新?lián)Q代，已開始列裝生產(chǎn)一線，一系列半導體光刻工藝設備隨產(chǎn)品制程工藝同步研發(fā)，在高精度、自動化程度上不斷升級優(yōu)化。獨有的裝備自主研制能力，是我司產(chǎn)品、工藝、技術等多學科高度集成、走在前列的體現(xiàn)，也是泰晶科技邁向全球頭部戰(zhàn)略的重要保障。

原文標題：泰晶科技某高精度光刻配套設備再創(chuàng)佳績

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