4月6日，中微公司董事長、總經(jīng)理尹志堯透露，公司研發(fā)的等離子刻蝕設(shè)備已經(jīng)進(jìn)入客戶的5nm生產(chǎn)線。

尹志堯表示，公司的等離子體刻蝕設(shè)備已應(yīng)用在國際一線客戶從65納米到14納米、7納米和5納米及其他先進(jìn)的集成電路加工制造生產(chǎn)線和先進(jìn)封裝生產(chǎn)線。

其中，公司開發(fā)的12英寸高端刻蝕設(shè)備已運(yùn)用在國際知名客戶最先進(jìn)的生產(chǎn)線上并用于5納米、5納米以下器件中若干關(guān)鍵步驟的加工。

此外，公司MOCVD設(shè)備在行業(yè)領(lǐng)先客戶的生產(chǎn)線上大規(guī)模投入量產(chǎn)。

中微公司也在互動平臺上證實(shí)了這一說法，稱公司刻蝕設(shè)備確實(shí)進(jìn)入了5納米生產(chǎn)線。

中微公司瞄準(zhǔn)世界科技前沿，主要從事高端半導(dǎo)體設(shè)備及泛半導(dǎo)體設(shè)備的研發(fā)、生產(chǎn)和銷售。

公司的刻蝕設(shè)備已應(yīng)用于全球先進(jìn)的7納米和5納米及其他先進(jìn)的集成電路加工制造生產(chǎn)線及先進(jìn)封裝生產(chǎn)線。

中微公司作為設(shè)備公司，向客戶提供可加工先進(jìn)器件的設(shè)備，協(xié)助、配合客戶實(shí)現(xiàn)先進(jìn)器件的開發(fā)和生產(chǎn)。

據(jù)介紹，等離子體刻蝕機(jī)是芯片制造中的一種關(guān)鍵設(shè)備，用來在芯片上進(jìn)行微觀雕刻，每個線條和深孔的加工精度都是頭發(fā)絲直徑的幾千分之一到上萬分之一，精度控制要求非常高。

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