2021 年 3 月17日，上海——為期3天的全球半導體年度盛會SEMICON China 2021在上海隆重開幕，作為全球真空技術和泄漏檢測解決方案的供應商之一，普發真空在展會上亮相了其在半導體以及其他先進制造業和科研領域的整體解決方案。

半導體器件的生產離不開潔凈的真空環境。普發真空在展會現場展示了其明星產品，包括ASM 392檢漏儀、A 3004多級羅茨泵、A 200L多級羅茨泵以及HiPace 2300渦輪分子泵，與全球半導體領域的友商及媒體朋友們深度交流，共同探討普發真空如何在中國助力未來半導體行業發展。

普發真空展臺

普發真空總經理Julien Valentin表示：“盡管受到新冠疫情的影響，中國的半導體行業仍呈現出逆勢增長趨勢。中國市場位列普發真空增長戰略支柱之一，成為促進我們全球業務發展的強勁動力。未來，我們將繼續因地制宜，持續深耕中國市場，更好地服務本土客戶，推動中國第三代半導體產業騰飛。”

節能高效靈敏，滿足嚴苛的半導體制造應用

半導體和平板顯示器行業對于真空生產環境要求極為嚴苛，這些應用要求真空儀器具備快速的抽空時間和高靈敏度。 普發真空的ASM 392檢漏儀無與倫比的靈敏度和精確度恰好能夠滿足這一需求。除了檢漏儀都會配備的干式非接觸式前級真空泵和高真空渦輪分子泵之外，它裝有一臺額外的渦輪分子泵，能縮短泄漏檢測時間，同時不會在尺寸和可操作性方面有任何妥協，人機工學設計獨特，可操作性強，可用于各種測試場地，即使狹小的空間也應對自如，這都使其成為清潔環境下各種組件泄漏測試的理想工具。

對于半導體晶圓、顯示屏及太陽能電池等嚴苛型應用，普發真空展示了A 3004多級羅茨泵。它的抽速高達3,000 m3/h，工藝壽命延長，能耗降低，是市場上運營維護成本最低的產品之一。除此以外，該系列泵還配備了一個擴展的溫度管理，擴大了工作溫度范圍，提高了工藝可靠性。

高能效A 3004多級羅茨泵，抽速可達3000m3/h。

作為能適應高吞吐量應用和頻繁抽空循環的全新 200 m3/h 級別產品，A 200L多級羅茨泵更是展示出了普發真空在集成干式泵市場中的全球領導地位。A 100 L 泵對于半導體行業生產設施的泵集成有革命性的意義——這種泵以干式多級羅茨泵技術為基礎，盡管尺寸小，卻依然具有高抽速和短抽空時間。如今，普發真空A 200系列在全世界范圍內眾多 300 mm 半導體晶圓工廠都已安裝。

此外，普發真空還重點展示了能夠應用于侵蝕性氣體環境的HiPace 2300渦輪分子泵。這款緊湊且性能卓越的渦輪分子泵具有高性價比和安裝角度的靈活性，革命性的轉子設計為其帶來更出色的抽速，更好的前級泵兼容性和更大的氣流量，對于小分子氣體具有更高的壓縮比。

緊湊的復合軸承HiPace 2300渦輪分子泵。

普發真空高度重視半導體領域的業務發展。2019年在無錫擴建的新工廠更是增加了干泵生產、全新泄漏測試系統ATC的生產以及泵站組裝等業務能力，更好服務中國本土客戶需求的同時，還能夠促進公司在真空鍍膜、半導體等市場的戰略增長。

自1890年創立以來，普發真空不斷樹立真空技術的新標準，并通過持續開發創新成果并成功推向市場，幫助科學界與工業界從中受益。未來，普發真空期盼以創造出最先進的真空技術解決方案作為源動力，以最高標準要求自身，不斷地創新，為中國客戶提供更豐富的靈感和更多樣的產品組合。