日本的佳能曾經是最大的***制造商之一,后來逐漸衰微。但佳能并沒有放棄***業務。據日經中文網報道,佳能將于2021年3月發售新型***“FPA-3030i5a”,用來搶占高功能半導體市場。
時隔7年,佳能更新了面向小型基板的半導體***,該設備使用波長為365納米的“i線”光源,支持直徑從2英寸(約5厘米)到8英寸(約20厘米)的小型基板,生產效率較以往機型提高了約17%。
就工藝水平而言,佳能的這款新型***是入門級別的,它的最大價值在于幫助企業提高產能。
除了主流的硅晶圓之外,該機還可以提高小型晶圓較多的化合物半導體的生產效率。包括功率器件耐壓性等出色的碳化硅(SiC),以及作為5G相關半導體材料而受到期待的氮化鎵(GaN)等。
此外,佳能還致力于研發“后期工序”(制作半導體芯片之后的封裝加工等)中使用的***,比如去年7月推出的515毫米 x 510毫米大型基板的***。
據悉,佳能正在著力開展新一代生產工藝的研發。
責編AJX
聲明:本文內容及配圖由入駐作者撰寫或者入駐合作網站授權轉載。文章觀點僅代表作者本人,不代表電子發燒友網立場。文章及其配圖僅供工程師學習之用,如有內容侵權或者其他違規問題,請聯系本站處理。
舉報投訴
-
半導體
+關注
關注
339文章
30737瀏覽量
264156 -
佳能
+關注
關注
3文章
395瀏覽量
40614 -
光刻機
+關注
關注
31文章
1199瀏覽量
48925
發布評論請先 登錄
相關推薦
熱點推薦
俄羅斯亮劍:公布EUV光刻機路線圖,挑戰ASML霸主地位?
? 電子發燒友網報道(文/吳子鵬)?在全球半導體產業格局中,光刻機被譽為 “半導體工業皇冠上的明珠”,而極紫外(EUV)光刻技術更是先進制程芯片制造的核心。長期以來,荷蘭 ASML 公司幾乎壟斷
AI需求飆升!ASML新光刻機直擊2nm芯片制造,尼康新品獲重大突破
*1(L/S*2)高分辨率。扇出型面板級封裝(FOPLP)技術為何會獲得臺積電、三星等代工大廠的青睞?比較傳統的光刻機設備,尼康DSP-100的技術原理有何不同?能解決AI芯片生產當中的哪些痛點問題? 針對2nm、3nm芯片制造難題,光刻機龍頭企業ASML新款
壟斷 EUV 光刻機之后,阿斯麥劍指先進封裝
電子發燒友網綜合報道 當全球半導體產業陷入 “先進制程競賽” 的白熱化階段,極紫外(EUV)光刻機作為高端芯片制造的 “皇冠上的明珠”,成為決定產業格局的核心力量。荷蘭阿斯麥(ASML)作為全球唯一
光刻機的“精度錨點”:石英壓力傳感器如何守護納米級工藝
在7納米、3納米等先進芯片制造中,光刻機0.1納米級的曝光精度離不開高精度石英壓力傳感器的支撐,其作為“隱形功臣”,是保障工藝穩定、設備安全與產品良率的核心部件。本文聚焦石英壓力傳感器在光刻機中
國產高精度步進式光刻機順利出廠
近日,深圳穩頂聚芯技術有限公司(簡稱“穩頂聚芯”)宣布,其自主研發的首臺國產高精度步進式光刻機已成功出廠,標志著我國在半導體核心裝備領域取得新進展。 此次穩頂聚芯出廠的步進式光刻機屬于WS180i
今日看點丨全國首臺國產商業電子束光刻機問世;智元機器人發布行業首個機器人世界模型開源平臺
全國首臺國產商業電子束光刻機問世,精度比肩國際主流 ? 近日,全國首臺國產商業電子束光刻機"羲之"在浙大余杭量子研究院完成研發并進入應用測試階段。該設備精度達到0.6nm,線寬
發表于 08-15 10:15
?3111次閱讀
全球市占率35%,國內90%!芯上微裝第500臺步進光刻機交付
? 電子發燒友網綜合報道,近日,上海芯上微裝科技股份有限公司(簡稱:芯上微裝,英文簡稱:AMIES)第500臺步進光刻機成功交付,并舉辦了第500臺 步進光刻機 交付儀式。 ? ? 光刻是半導體器件
發表于 08-13 09:41
?2328次閱讀
今日看點丨佳能再開新光刻機工廠;中國移動首款全自研光源芯片研發成功
? ? 時隔21年,佳能再開新光刻機工廠 ? 日前,據《日本經濟新聞》報道,佳能在當地一家位于栃木縣宇都宮市的半導體光刻設備工廠舉行開業儀式,這也是
發表于 08-05 10:23
?2249次閱讀
佳能9月啟用新光刻機工廠,主要面向成熟制程及封裝應用
7 月 31 日消息,據《日經新聞》報道,日本相機、打印機、光刻機大廠佳能 (Canon) 位于日本宇都宮市的新光刻機制造工廠將于 9 月正式投入量產,主攻成熟制程及后段封裝應用設備,為全球芯片封裝
ASML官宣:更先進的Hyper NA光刻機開發已經啟動
電子發燒友網綜合報道,日前,ASML 技術高級副總裁 Jos Benschop 表示,ASML 已攜手光學組件獨家合作伙伴蔡司,啟動了 5nm 分辨率的 Hyper NA 光刻機開發。這一舉措標志著
發表于 06-29 06:39
?2044次閱讀
電子直寫光刻機駐極體圓筒聚焦電極
電子直寫光刻機駐極體圓筒聚焦電極
隨著科技進步,對電子顯微鏡的精度要求越來越高。電子直寫光刻機的精度與電子波長和電子束聚焦后的焦點直徑有關,電子波長可通過增加加速電極電壓來減小波長,而電子束聚焦后
發表于 05-07 06:03
成都匯陽投資關于光刻機概念大漲,后市迎來機會
【2025年光刻機市場的規模預計為252億美元】 光刻機作為半導體制造過程中價值量和技術壁壘最高的設備之一,其在半導體制造中的重要性不言而喻。 目前,全球市場對光刻機的需求持續增長,尤其是在先
不只依賴光刻機!芯片制造的五大工藝大起底!
在科技日新月異的今天,芯片作為數字時代的“心臟”,其制造過程復雜而精密,涉及眾多關鍵環節。提到芯片制造,人們往往首先想到的是光刻機這一高端設備,但實際上,芯片的成功制造遠不止依賴光刻機這一單一工具。本文將深入探討芯片制造的五大關鍵工藝,揭示這些工藝如何協同工作,共同鑄就了
佳能將推新光刻機,效率提升17%
評論