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佳能將推新光刻機,效率提升17%

如意 ? 來源:手機中國 ? 作者:宋際金 ? 2021-01-07 11:21 ? 次閱讀
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日本的佳能曾經是最大的***制造商之一,后來逐漸衰微。但佳能并沒有放棄***業務。據日經中文網報道,佳能將于2021年3月發售新型***“FPA-3030i5a”,用來搶占高功能半導體市場。

時隔7年,佳能更新了面向小型基板的半導體***,該設備使用波長為365納米的“i線”光源,支持直徑從2英寸(約5厘米)到8英寸(約20厘米)的小型基板,生產效率較以往機型提高了約17%。

就工藝水平而言,佳能的這款新型***是入門級別的,它的最大價值在于幫助企業提高產能。

除了主流的硅晶圓之外,該機還可以提高小型晶圓較多的化合物半導體的生產效率。包括功率器件耐壓性等出色的碳化硅(SiC),以及作為5G相關半導體材料而受到期待的氮化鎵(GaN)等。

此外,佳能還致力于研發“后期工序”(制作半導體芯片之后的封裝加工等)中使用的***,比如去年7月推出的515毫米 x 510毫米大型基板的***。

據悉,佳能正在著力開展新一代生產工藝的研發。
責編AJX

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