10月14日,荷蘭ASML(阿斯麥)公布了光刻機產品的最新進展。
其中TWINSCAN NXE:3600D作為其目前研發中的最先進光刻機系統,終于敲定最終規格。
具體來說,30mJ/cm2的曝光速度達到每小時曝光160片晶圓,提高了18%的生產率,并改進機器匹配套準精度至1.1nm。
3600D定于2021年中旬出貨交付,客戶還需要一定時間等待,價格應該不會低于現款老型號的1.2億美元。
目前,ASML已經投產的最先進光刻機是3400C,但主力出貨型號是3400B。參數方面,3400B的套刻精度為2nm、曝光速度20mJ/cm2,每小時可曝光125片晶圓。
另外,ASML透露,3400B在三季度也完成了軟件升級。全新的DUV光刻機TWINSCAN NXT:2050i已經在三季度結束驗證,四季度早期開始正式出貨。
據悉,在截止9月30日的單季度,ASML共獲得60臺光刻機收入,出貨了10臺EUV光刻機。
責編AJX
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