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從激光技術的角度來分析我國光刻機發展緩慢的原因

獨愛72H ? 來源:LeoGo科技 ? 作者:佚名 ? 2020-04-13 20:25 ? 次閱讀
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(文章來源:LeoGo科技)
我們應該知道中國激光技術在全球領先,甚至排在第一位。1964年,錢學森院士提議取名為“激光”,從1961年中國第一臺激光器到世界上第一所激光技術的專業研究所——中國科學院上海光學精密機械研究所的成立,而且在ICF激光驅動器、高功率化學激光器、半導體泵浦的固體激光器、超短超強激光器等等各方面都有進步,可以說我國的激光事業一直在不斷進步。

可是激光≠光刻機技術,我們知道光刻機技術所需要的是——需要最精密的技術。包括德國機械工藝、蔡司鏡頭和美國公司提供的光源。涉及多個學科,包含了系統集成、精密光學、精密運動、精密物料傳輸、高精度微環境控制等多項先進技術。

光刻工藝的具體步驟繁瑣,需要通過硅片表面清洗烘干、涂底、旋涂光刻膠、軟烘、對準曝光、后烘、顯影、硬烘、刻蝕等工序,不是簡單的激光就能解決的。“拉同伙”,實際上ASML能夠成功,是因為將三星、臺積電、英特爾等等共同拉入ASML 公司。

為了解決激光,ASML 收購了全球領先的準分子激光器供應商 Cymer,為了解決光刻系統,以 10 億歐元現金入股光學系統供應商卡爾蔡司。

可以說,ASML的成功不是一蹴而就的,激光≠光刻機。我們的制約因素,不僅僅技術。其實,影響我們的不僅僅是技術,還有技術壁壘。從《瓦森納協議》中的影響,讓我們不得不受限于技術的“限制”。很多時候不是我們不想發展,而是很多技術它是不能夠進來的,在這種情況下,我們的光刻機的發展受到了非常大的限制。

在技術趕不上,又被封鎖的情況下,我們確實會在光刻機方面有所欠缺。當然,我們也期盼能夠在各種技術的合力下,擺脫限制,得到發展,走出一條打破光刻機技術之路。
(責任編輯:fqj)

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