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韓媒報(bào)道稱三星與臺(tái)積電的差距未來將會(huì)越來越大

半導(dǎo)體動(dòng)態(tài) ? 來源:wv ? 作者:TechNews科技新報(bào) ? 2019-09-26 17:03 ? 次閱讀
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全球最大的晶圓代工廠臺(tái)積電在7納米產(chǎn)能熱銷之后,現(xiàn)在又專心在5納米及3納米開發(fā),并且還將眼光放在更先進(jìn)的2納米研發(fā),這些進(jìn)展看在韓國媒體眼里也不得不承認(rèn),相較于三星正苦于不確定性增加,兩家公司的差距未來將會(huì)越來越大。

根據(jù)韓國媒體《Business Korea》報(bào)導(dǎo),臺(tái)積電計(jì)劃在2019年或2020年第1季時(shí)啟動(dòng)5納米制程,并且在2021或2022年啟動(dòng)3納米制程。一旦順利量產(chǎn),藉由3納米制程生產(chǎn)的芯片,性能有望較5納米制程產(chǎn)品提升35%,效率提高50%,與最先進(jìn)的7納米制程芯片相較,7納米制程產(chǎn)品將被遠(yuǎn)遠(yuǎn)拋在后面。

臺(tái)積電曾表示,相信摩爾定律依然有效。依據(jù)摩爾定律,半導(dǎo)體的電晶體數(shù)目每隔18個(gè)月會(huì)增加1倍,性能也提升1倍,盡管有人仍會(huì)提及物理限制,臺(tái)積電仍強(qiáng)調(diào),摩爾定律的基礎(chǔ)將會(huì)延伸到1納米制程之后。

臺(tái)積電補(bǔ)充,有能力達(dá)到1納米制程,目前預(yù)計(jì)將在2納米制程技術(shù)投資65億美元,并在2024年開始制造基于該技術(shù)的產(chǎn)品。

報(bào)導(dǎo)進(jìn)一步指出,對(duì)臺(tái)積電循序漸進(jìn)、且越來越精密的制程發(fā)展計(jì)劃,對(duì)三星來說是沉重的負(fù)擔(dān)。三星原本目標(biāo)是在2030年前在全球晶圓代工市場占最大市占率,但許多因素讓這目標(biāo)不再樂觀,包括之前日本對(duì)光阻等半導(dǎo)體生產(chǎn)原料出口限制,導(dǎo)致三星的不確定性不斷增加等。

一位韓國業(yè)內(nèi)人士指出,目前三星已完成3納米技術(shù)研發(fā),現(xiàn)正招聘許多具極紫外線(EUV)制程的相關(guān)設(shè)備技術(shù)人員,加速采用EUV技術(shù)的制程研發(fā)。該人士也表示,在外部不確定因素增加情況下,投資和相關(guān)規(guī)劃仍必須在不確定性問題解決后,才可能有進(jìn)展。

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