国产精品久久久aaaa,日日干夜夜操天天插,亚洲乱熟女香蕉一区二区三区少妇,99精品国产高清一区二区三区,国产成人精品一区二区色戒,久久久国产精品成人免费,亚洲精品毛片久久久久,99久久婷婷国产综合精品电影,国产一区二区三区任你鲁

0
  • 聊天消息
  • 系統消息
  • 評論與回復
登錄后你可以
  • 下載海量資料
  • 學習在線課程
  • 觀看技術視頻
  • 寫文章/發帖/加入社區
會員中心
創作中心

完善資料讓更多小伙伴認識你,還能領取20積分哦,立即完善>

3天內不再提示

關于EUV機臺的性能分析和應用介紹

lC49_半導體 ? 來源:djl ? 2019-09-04 16:56 ? 次閱讀
加入交流群
微信小助手二維碼

掃碼添加小助手

加入工程師交流群

三星有意一口氣買下10臺單價為1.76億美元的EUV。三星如果真的這樣做,那就會提升其在7nm等先進工藝上的領先優勢。這一方面是由于EUV設備是未來集成電路發展的關鍵,另一方面則在于三星如果真能買下10臺,那么臺積電、Intel和格芯等廠商則會面臨幾乎未來一年內無EUV設備可買的風險。

因為根據EUV設備唯一供應商——荷蘭ASML的消息顯示,他們每年大概能生產12臺EUV設備。考慮到三星之前已經快對手一步購入了一些EUV設備,使得韓媒做出了這樣的猜測。但三星的計劃真的得逞嗎?

關于EUV機臺的性能分析和應用介紹

巨頭們的EUV布局,未來勝負的關鍵

在摩爾定律的指導下,經歷數十年發展的集成電路開始面臨瓶頸:工藝制程進入10nm之后,過往的可見光光刻技術似乎不能應對如此小的溝通,因此業界將目光投向了EUV(極紫外光)光刻。

利用這種波長為13.4nm的光源打造的EUV光刻設備能夠在晶圓上刻上先進工藝所需的電路。于是包括臺積電、三星、Intel和格芯在內的幾大先進晶圓代工廠都將目光投向了這個設備,并說出了他們在EUV光刻機上的布局和規劃:

首先在臺積電方面,雖然臺積電他們透露已經在7nm研發上使用了7nm工藝,并實現了EUV掃描機、光罩和印刷的集成。但根據臺積電聯席CEO 劉德銀在2016年的某會議上的演講透露,臺積電方面認為EUV光刻工藝直到2020年才能有效量產。按照臺積電的路線圖,也就就是說,臺積電會在5nm上采用EUV工藝取代現在的傳統光刻。已達到在新工藝上提高密度,簡化工藝并降低成本的目的。

來到三星這邊似乎則更為激進。在之前的報道中我們看到,三星計劃在7nm制程中采用EUV光刻。在ASML與今年7月的半導體設備站上宣布突破了250瓦EUV光源的瓶頸后(光源功率(source power)──也就是傳送到掃描機以實現晶圓曝光的EUV光子(photon)數量之量測值──直接等同于生產力,芯片制造商一直以來都堅持250瓦的光源功率是達成每小時125片晶圓(WPH)生產量的必要條件,即production-ready。),三星宣布將會在2018年推出使用EUV等先進制造技術的7nm新工藝。

來到Intel方面,作為制造巨頭,英特爾在先進制程方面的引進相當克制。在早前的制程大會上,在問到EUV的布局上面,英特爾方面表示,從他們方面看來,EUV光刻的產能和配套服務,目前還不能符合量產需求,因此他們會保持對新設備的關注,在適合的時候會進行公布。

來到格芯方面,在今年六月份,格芯公布了他們的7nm進度,根據他們的Roadmap,他們將會在2018年進入7nm,但是這時候用的是DUV技術,根據他們的布局,會在2019年引入EUV技術。

三星真能壟斷EUV光刻機?

BusinessKorea的報道顯示,ASML從2000年開始就投入了EUV光刻的研究。在研發早期,三星和Intel就對ASML提供了極大的支持。

在2012年8月,三星宣布加入了ASML的客戶聯合投資計劃。根據協議規定,三星承諾在未來五年內(從2012年算起),向ASML的次時代微影技術投入2.76億歐元,占整個項目13.8億歐元籌款目標的15%。與此同時三星向ASML投資了5.03億歐元,取得ASML約3%股權。

但到了2016年,三星宣布出售價值約6.06億歐元的ASML股權,這占了當時ASML整體股權的1.45%。也就是說三星手上的ASML股權大約剩下1.55%。

英特爾方面也加入了三星的客戶聯合投資計劃,根據當時的報道,Intel參與ASML的計劃分為兩期,第一期目標為Intel投資5.53億歐元(6.8億美元)協助ASML開發18英寸晶圓制造工具,同時Intel將以17億歐元(21億美元)的代價收購ASML公司大約10%的盤前交易已發行股票。

第二期目標還要等ASML股東批準,它包括額外的2.76億歐元(3.4億美元)的有關EUV技術的R&D研發資金,以及價值8.38億歐元(10億美元)的5%盤后交易已發行股票。屆時Intel將持有ASML 15%股份,整個產權交易價值約為25億歐元(31億美元)。

作為協議的一部分,Intel需要提前購買ASML的450mm晶圓及EUV開發、生產工具。

臺積電方面也同時參與。當時消息顯示,臺積電將以8.38億歐元購買ASML的5%股權,并同意在下一代光刻技術如超紫外技術和450毫米光刻設備的研發上向ASML投資2.76億歐元。不過臺積電在2015年全部處理了ASML 股權,獲利6.95 億美元。

至于格芯方面,從公開信息查找,似乎他們并沒有參與這個計劃。

如果光從股權上看,則是Intel、三星、臺積電三者按照從先到后,如果這些股份占有董事會的決策權的話,那么Intel在ASML中的話事權似乎更大,三星想一下子包攬所有的EUV設備,是否會獲得來自Intel等的阻撓,這未能盡知。

這些基于股權話事的說法是來自作者的猜測,不過按照常理,Intel和三星等投入到ASML的計劃和股份中,除了推動EUV的進展,共同受益外,在未來競購中處于領先地位,應該也是他們前赴后繼投入的一個重要原因。

當然,至于隱藏在后面的具體細則,作者未能得知,希望有知情者透露。

我們不妨從EUV之前的購買狀況來分析一下。

根據ASML的公開信息顯示, 2016年第四季度賣掉了6臺EUV光刻機,而根據分析師透露,當中的五臺都是賣給了臺積電。

三星方面無疑是最大買主,據相關消息透露,他們已經購入了超過十臺的EUV設備,并將其裝設于韓國華城市的18號生產線(Line 18)全力搶占晶圓代工版圖。

至于英特爾方面,和他們的EUV規劃一樣,沒有消息透露他們買了多少臺設備,但在2015年,有消息泄露有美商一口氣買了好幾臺EUV光刻機。有人就猜測那是Intel。

至于格芯方面的具體布局依然是沒有消息源可尋。

正如開頭所說,ASML今年的EUV產能是12臺,全部銷售一空,但他們在明年會將產能提升到24臺。但根據ASML在7月發布的報告顯示,他們擠壓的EUV訂單已經達到了21臺。考慮到現在晶圓廠的競爭情況,未來的競爭肯定會加劇的。

綜上所述,三星想一口氣買下所有的EUV光刻機,也許只是一個大膽的設想。不過考慮三星之前斥巨資壟斷了OLED生產關鍵設備供應商CanonTokki多年的產能,可以看出三星再次做出這種事也有很大可能。通過內存瘋長掙得盤滿缽滿的韓國巨頭現在真可謂是財大氣粗,況且對ASML來說,Business is business,和誰不是做生意呢?

聲明:本文內容及配圖由入駐作者撰寫或者入駐合作網站授權轉載。文章觀點僅代表作者本人,不代表電子發燒友網立場。文章及其配圖僅供工程師學習之用,如有內容侵權或者其他違規問題,請聯系本站處理。 舉報投訴
  • 臺積電
    +關注

    關注

    44

    文章

    5803

    瀏覽量

    176346
  • 晶圓
    +關注

    關注

    53

    文章

    5410

    瀏覽量

    132298
  • EUV
    EUV
    +關注

    關注

    8

    文章

    615

    瀏覽量

    88812
收藏 人收藏
加入交流群
微信小助手二維碼

掃碼添加小助手

加入工程師交流群

    評論

    相關推薦
    熱點推薦

    俄羅斯亮劍:公布EUV光刻機路線圖,挑戰ASML霸主地位?

    ? 電子發燒友網報道(文/吳子鵬)?在全球半導體產業格局中,光刻機被譽為 “半導體工業皇冠上的明珠”,而極紫外(EUV)光刻技術更是先進制程芯片制造的核心。長期以來,荷蘭 ASML 公司幾乎壟斷
    的頭像 發表于 10-04 03:18 ?1w次閱讀
    俄羅斯亮劍:公布<b class='flag-5'>EUV</b>光刻機路線圖,挑戰ASML霸主地位?

    壟斷 EUV 光刻機之后,阿斯麥劍指先進封裝

    電子發燒友網綜合報道 當全球半導體產業陷入 “先進制程競賽” 的白熱化階段,極紫外(EUV)光刻機作為高端芯片制造的 “皇冠上的明珠”,成為決定產業格局的核心力量。荷蘭阿斯麥(ASML)作為全球唯一
    的頭像 發表于 03-05 09:19 ?1382次閱讀

    EUV光源重大突破!ASML:芯片產量將提升50%

    紫外光刻(EUV)設備的公司。EUV設備堪稱芯片制造商生產先進計算芯片的“神器”,像臺積電、英特爾等行業巨頭都高度依賴它。EUV光刻機是以10 - 14納米波長的極紫外光為光源,主要用于14納米及以下先進制程芯片制造,小于5納米
    的頭像 發表于 02-25 09:15 ?1192次閱讀

    關于MT6901的直線DEMO介紹

    關于MT6901的直線DEMO介紹
    的頭像 發表于 01-30 10:54 ?415次閱讀
    <b class='flag-5'>關于</b>MT6901的直線DEMO<b class='flag-5'>介紹</b>

    關于NFC鎳鋅鐵氧體片的介紹

    關于NFC鎳鋅鐵氧體片的介紹
    的頭像 發表于 12-04 10:52 ?412次閱讀
    <b class='flag-5'>關于</b>NFC鎳鋅鐵氧體片的<b class='flag-5'>介紹</b>

    『新品來襲』 高精度多通道功率分析儀ANPA4000--助力新能源汽車驅動電機行業飛速發展

    艾諾儀器深耕測試領域三十余年,創新推出的高精度多通道功率分析儀ANPA4000系列,已成功應用于電機臺架測試、電動汽車電性能檢測、充電樁測試及光伏逆變器老化分析等場景。該產品以0.03
    的頭像 發表于 11-21 08:29 ?673次閱讀
    『新品來襲』 高精度多通道功率<b class='flag-5'>分析</b>儀ANPA4000--助力新能源汽車驅動電機行業飛速發展

    關于系統鏈接腳本的介紹

    一、隊伍介紹 本篇為蜂鳥E203系列分享第四篇,本篇介紹的內容是系統鏈接腳本。 二、如何實現不同的下載模式? 實現三種不同的程序運行方式,可通過makefile的命令行指定不同的鏈接腳本,從而實現
    發表于 10-30 08:26

    EUV光刻膠材料取得重要進展

    電子發燒友網綜合報道 隨著集成電路工藝的不斷突破, 當制程節點持續向7nm及以下邁進,傳統的光刻技術已難以滿足高精度、高密度的制造需求,此時,波長13.5nm的極紫外(EUV)光刻技術逐漸成為支撐
    的頭像 發表于 08-17 00:03 ?4689次閱讀

    中科院微電子所突破 EUV 光刻技術瓶頸

    極紫外光刻(EUVL)技術作為實現先進工藝制程的關鍵路徑,在半導體制造領域占據著舉足輕重的地位。當前,LPP-EUV 光源是極紫外光刻機所采用的主流光源,其工作原理是利用波長為 10.6um 的紅外
    的頭像 發表于 07-22 17:20 ?1148次閱讀
    中科院微電子所突破 <b class='flag-5'>EUV</b> 光刻技術瓶頸

    如何評估協議分析儀的性能指標?

    評估協議分析儀的性能指標需從硬件處理能力、協議解析精度、實時響應效率、擴展性與兼容性、用戶體驗五大維度綜合考量。以下是具體指標及評估方法,結合實際場景說明其重要性:一、硬件處理能力:決定基礎性能
    發表于 07-18 14:44

    同步電機步進運動性能分析

    對同步電動機采用步進控制,模擬仿真該動態下電機各種參數對性能的影響,同時提出如何選取初值和確定合適的參數。 純分享帖,需要者可點擊附件免費獲取完整資料~~~*附件:同步電機步進運動性能分析.pdf【免責
    發表于 06-20 17:38

    二次配工程(Hook-up)介紹-江蘇泊蘇系統集成有限公司

    什么是二次配工程(Hook-up)? 以工藝設備機臺為對象,按其UT需求, 在合理時間內,按特定的技術規格要求,將動力各個主系統連接到各個工藝機臺,并保證機臺長期持續正常運作。
    的頭像 發表于 06-19 14:21 ?2718次閱讀
    二次配工程(Hook-up)<b class='flag-5'>介紹</b>-江蘇泊蘇系統集成有限公司

    混合勵磁永磁發電機的設計與性能分析

    純分享帖,需要者可點擊附件免費獲取完整資料~~~*附件:混合勵磁永磁發電機的設計與性能分析.pdf【免責聲明】本文系網絡轉載,版權歸原作者所有。本文所用視頻、圖片、文字如涉及作品版權問題,請第一時間告知,刪除內容!
    發表于 05-29 14:10

    解決應用性能問題的策略

    指標。本文重點介紹應用開發過程中使用性能工具與性能優化文章定位分析性能問題流程,目前DevEco Studio主要集成了四種
    的頭像 發表于 04-24 11:42 ?828次閱讀
    解決應用<b class='flag-5'>性能</b>問題的策略

    永磁體磁角度偏差對電機性能影響的分析

    、諧波、齒槽轉矩的影響進行分析,對高精度、高功率密度電機的研究開發以及生產過程中保持產品質量的一致性有一定積極意義。 點擊附件查看全文*附件:永磁體磁角度偏差對電機性能影響的分析.pdf
    發表于 03-25 15:37