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      電子發燒友網>電子資料下載>電子資料>EMI濺射鍍膜有什么樣的特點

      EMI濺射鍍膜有什么樣的特點

      2020-07-24 | pdf | 0.04 MB | 次下載 | 1積分

      資料介紹

      　　真空技術是結合機械、電機、材料、化工和航太等技術發展出來的產業，亦是目前我國與美、日等國極力推動之十大新興產業之一。真空技術應用范圍日趨廣泛，運用對象包括光電、半導體和LCD產業等，近年來尤其在光電、IC和LCD等產業之制造設備，更是成長迅速。

      　　EMI濺射鍍膜具有以下特點：

      　　價格低（國內擁有自主知識產權的話）。

      　　真空濺射加工的金屬薄膜厚度只有0.5～2μm，絕對不影響裝配。

      　　真空濺射是徹底的環保制程，絕對環保無污染。

      　　欲濺射材料無限制， 任何常溫固態導電金屬及有機材料、絕緣材料皆可使用（例：銅、鉻、銀、金、不銹鋼、鋁、氧化矽 SiO2等）。

      　　被濺射基材幾無限制（ABS、PC、PP、PS、玻璃、陶瓷、epoxy resin等）。

      　　膜質致密均勻、膜厚容易控制。

      　　附著力強（ASTM3599方法測試4B）。

      　　可同時搭配多種不同濺射材料之多層膜。并且，可隨客戶指定變換鍍層次序。

      半導體 lcd emi
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