在手機(jī)蓋板領(lǐng)域,PVD鍍膜裝飾工藝的應(yīng)用越來(lái)越廣,無(wú)論在金屬、玻璃、陶瓷及復(fù)合材料后蓋上,都需要PVD鍍膜,來(lái)提升手機(jī)蓋板的顏值及逼格,那么如何通過(guò)鍍膜來(lái)提升產(chǎn)品的靚麗與品位呢?有哪些主流的工藝?今天我們來(lái)了解一下。
一、手機(jī)非金屬材料如何通過(guò)PVD鍍膜來(lái)提升靚麗與品位?
1. 玻璃內(nèi)表面鍍反光膜
2. 玻璃外表面鍍AG、AF膜,增加手感,內(nèi)表面鍍顏色膜
3. 復(fù)合板材鍍反藍(lán)光(冰焰藍(lán))
3.氧化鋯陶瓷及玻璃蓋板外表面鍍膜
二、PVD鍍膜蒸發(fā)鍍與濺射鍍膜區(qū)別
PVD鍍膜主要分為蒸發(fā)鍍、濺射鍍和離子鍍。今天,我們主要來(lái)比較一下蒸發(fā)鍍與濺射鍍。

蒸發(fā)鍍膜,是將膜料加熱蒸發(fā)為氣相后沉積到襯底表面,此種成膜方式?jīng)Q定了蒸發(fā)出的粒子能量只能在 0.1-0.3ev,原子動(dòng)能太低,填充密度太低。

電子束蒸發(fā)的不穩(wěn)定性及其內(nèi)在機(jī)理:
| 影響種類 | 問(wèn)題點(diǎn) | 內(nèi)在機(jī)理 |
| 溫度 | 成膜溫度影響產(chǎn)品顏色 | 溫度高填充密度高,漂移少 |
| 真空室氧化能力的影響 | 大清洗前波長(zhǎng)偏長(zhǎng),之后偏短 |
*水蒸氣可以認(rèn)為就是氧氣。 *鍍膜速度直接影響氧化能力, 即膜層中金屬或低價(jià)氧化物的比例。 *從坩堝里蒸發(fā)出來(lái)的物質(zhì)是高價(jià)氧化物、 低價(jià)氧化物和金屬單體的混合物,更多的金屬 單體或低價(jià)氧化物在充大氣后會(huì)俘獲更多的 氧原子,使膜層致密。 |
| 空氣濕度大時(shí)膜層顏色不好控制 | ||
| 開爐時(shí)間長(zhǎng)波長(zhǎng)偏長(zhǎng) | ||
| 鍍膜慢波長(zhǎng)偏長(zhǎng) | ||
| 膜料分解狀況的影響 | 貌似電子槍光斑大小有影響 |
*光斑位置影響光斑大小。 *燈絲變形也會(huì)帶來(lái)光斑大小的變化。 *掃描足夠快時(shí)是面蒸發(fā),慢時(shí)依舊點(diǎn)蒸發(fā), 這當(dāng)然也相當(dāng)于“光斑大小”問(wèn)題。 *光斑小,蒸發(fā)區(qū)域溫度高,材料分解嚴(yán)重, 金屬單體和低價(jià)氧化物比例更高。 |
| 貌似光斑位置也有影響 | ||
| 貌似燈絲變形也有影響 | ||
| 貌似掃描快慢也有影響 | ||
| ……… |
磁控濺射鍍膜,通過(guò)在靶材與真空室壁之間施加電場(chǎng),使氬氣電離,并使氬離子加速撞擊靶材表面。靶材被亞離子撞擊,靶材原子溢出并以數(shù)十甚至上百電子伏特的動(dòng)能飛向被鍍基片表面并沉積在基底表面,原子動(dòng)能較蒸發(fā)高出兩個(gè)數(shù)量級(jí),填充密度高達(dá)98%,折射率高且穩(wěn)定。
-
PVD
+關(guān)注
關(guān)注
4文章
51瀏覽量
17655 -
鍍膜
+關(guān)注
關(guān)注
1文章
39瀏覽量
10931
原文標(biāo)題:3D玻璃、陶瓷及復(fù)合材料表面裝飾都需要它:PVD磁控濺射
文章出處:【微信號(hào):gh_e972c3f5bf0d,微信公眾號(hào):艾邦加工展】歡迎添加關(guān)注!文章轉(zhuǎn)載請(qǐng)注明出處。
發(fā)布評(píng)論請(qǐng)先 登錄
正面金屬化工藝高CP值選擇-化學(xué)鍍
印制電路板用化學(xué)鍍鎳金工藝探討(二)
CVD與PVD的區(qū)別及比較
電刷鍍技術(shù)的特點(diǎn)及用途分析
點(diǎn)鍍盲孔填充工藝流程簡(jiǎn)介
物理氣相沉積及濺射工藝(PVD and Sputtering)
連接器鍍霧錫與鍍亮錫有何區(qū)別
電弧離子鍍技術(shù)是什么?
光纖傳感器在磁控濺射鍍膜溫度的監(jiān)測(cè)
半導(dǎo)體制造之薄膜工藝講解
磁控濺射鍍膜工藝參數(shù)對(duì)薄膜有什么影響
鍍鎳處理工藝步驟 鍍鎳與鍍鉻的區(qū)別
臺(tái)階儀應(yīng)用丨電子束蒸鍍與磁控濺射鋁膜的厚度與均勻性對(duì)比研究
PVD鍍膜蒸發(fā)鍍與濺射鍍工藝與區(qū)別解讀
評(píng)論