動態(tài)

• 發(fā)布了文章 2025-12-08 18:01

  橢偏術(shù)精準(zhǔn)測量超薄膜n,k值及厚度：利用光學(xué)各向異性襯底

  

  傳統(tǒng)橢偏測量在同時確定薄膜光學(xué)常數(shù)（復(fù)折射率n,k）與厚度d時，通常要求薄膜厚度大于10nm，這限制了其在二維材料等超薄膜體系中的應(yīng)用。Flexfilm全光譜橢偏儀可以非接觸對薄膜的厚度與折射率的高精度表征，廣泛應(yīng)用于薄膜材料、半導(dǎo)體和表面科學(xué)等領(lǐng)域。本研究提出一種新方法：利用各向異性襯底打破橢偏分析中n,k,d的參數(shù)耦合。模擬結(jié)果表明，該方法可在單次測量中

  光學(xué) 測量

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• 發(fā)布了文章 2025-12-05 18:04

  臺階儀的原理及常見問題解答

  

  表面特征是材料、化學(xué)等領(lǐng)域的重要研究內(nèi)容。準(zhǔn)確評價表面形貌與特征，對材料性能分析、工藝改進(jìn)具有重要意義。臺階高度測量在表面研究中作用突出：一方面可用于分析微觀形貌，另一方面在半導(dǎo)體制造等工業(yè)中涉及大量臺階檢測需求。臺階高度是薄膜工藝中的關(guān)鍵參數(shù)，其精確、快速測定與控制是保障材料質(zhì)量、提升生產(chǎn)效率的重要手段。因此，表面線條寬度、間距、臺階高度、粗糙度的測量，以

  半導(dǎo)體制造 材料

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• 發(fā)布了文章 2025-12-03 18:05

  光譜橢偏術(shù)在等離子體光柵傳感中的應(yīng)用：參數(shù)優(yōu)化與亞皮米級測量精度

  

  基于衍射的光學(xué)計量方法（如散射測量術(shù)）因精度高、速度快，已成為周期性納米結(jié)構(gòu)表征的關(guān)鍵技術(shù)。在微電子與生物傳感等前沿領(lǐng)域，對高性能等離子體納米結(jié)構(gòu)（如金屬光柵）的精確測量提出了迫切需求，然而現(xiàn)有傳統(tǒng)光學(xué)模型（如有效介質(zhì)近似）往往難以準(zhǔn)確描述其復(fù)雜的光學(xué)響應(yīng)，這限制了相關(guān)器件在尺寸計量與高靈敏度傳感中的應(yīng)用。Flexfilm全光譜橢偏儀可以非接觸對薄膜的厚度與

  光譜 測量

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• 發(fā)布了文章 2025-12-01 18:02

  基于光學(xué)成像的沉積薄膜均勻性評價方法及其工藝控制應(yīng)用

  

  靜電噴涂沉積（ESD）作為一種經(jīng)濟高效的薄膜制備技術(shù)，因其可精確調(diào)控薄膜形貌與化學(xué)計量比而受到廣泛關(guān)注。然而，薄膜的厚度均勻性是影響其最終性能與應(yīng)用可靠性的關(guān)鍵因素，其優(yōu)劣直接受到電壓、流速、針基距等多種工藝參數(shù)的復(fù)雜影響。傳統(tǒng)均勻性評估方法往往效率較低或具有破壞性，難以滿足快速工藝優(yōu)化的需求。Flexfilm探針式臺階儀可以實現(xiàn)表面微觀特征的精準(zhǔn)表征與關(guān)鍵

  ESD 光學(xué)成像

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• 發(fā)布了文章 2025-11-28 18:03

  光譜橢偏儀SE和紫外光譜UV在瀝青膠結(jié)料性能表征及老化評估研究

  

  瀝青路面是全球道路網(wǎng)絡(luò)的主要構(gòu)成部分，但其在使用過程中會持續(xù)受到交通荷載、溫度變化、氧化老化和紫外線輻射等多種環(huán)境與機械應(yīng)力的侵蝕。這些因素導(dǎo)致瀝青結(jié)合料逐漸硬化、開裂，嚴(yán)重?fù)p害路面的服役性能與使用壽命。然而，傳統(tǒng)上依賴流變學(xué)或經(jīng)驗性指標(biāo)的表征方法，往往難以捕捉到瀝青在分子和微觀尺度上的早期老化與降解過程，從而限制了對其性能衰變機制的深入理解和有效預(yù)測。Fl

  光譜 薄膜

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• 發(fā)布了文章 2025-11-26 18:03

  臺階儀在Li?O-Al?O?-SiO?光敏微晶玻璃微結(jié)構(gòu)制備中的應(yīng)用

  

  隨著三維集成封裝（3DIC）技術(shù)的發(fā)展，傳統(tǒng)轉(zhuǎn)接板材料在高頻、高密度封裝中的性能瓶頸日益凸顯。鋰鋁硅（Li?O-Al?O?-SiO?）光敏微晶玻璃因其優(yōu)異的光敏性、高頻介電性能和可控微納加工能力，成為新一代轉(zhuǎn)接板材料的理想選擇。Flexfilm探針式臺階儀可以實現(xiàn)表面微觀特征的精準(zhǔn)表征與關(guān)鍵參數(shù)的定量測量，精確測定樣品的表面臺階高度與膜厚，為材料質(zhì)量把控和生

  器件 材料

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• 發(fā)布了文章 2025-11-24 18:02

  新型橢圓偏振法SHEL在納米尺度面積表面測量的應(yīng)用

  

  納米技術(shù)的發(fā)展催生了從超光滑表面到復(fù)雜納米結(jié)構(gòu)表面的制備需求，這些表面的精確測量對質(zhì)量控制至關(guān)重要。然而，當(dāng)前納米尺度表面測量技術(shù)面臨顯著挑戰(zhàn)：原子力顯微鏡（AFM）測量速度慢、掃描面積有限；掃描電子顯微鏡（SEM）可能損傷樣品；白光干涉儀（WLI）則受限于橫向分辨率和參考面需求。傳統(tǒng)橢偏儀雖能通過分析偏振態(tài)變化間接表征表面，但其依賴旋轉(zhuǎn)光學(xué)元件的設(shè)計易引入

  顯微鏡 材料 測量

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• 發(fā)布了文章 2025-11-21 18:07

  寬波段大角度光譜橢偏技術(shù)：面向多層膜表征的光柵-傅里葉系統(tǒng)

  

  隨著半導(dǎo)體和光電子技術(shù)的快速發(fā)展，紫外至紅外波段的薄膜材料應(yīng)用日益廣泛，而薄膜厚度、折射率等參數(shù)的高精度測量對器件性能至關(guān)重要。然而，現(xiàn)有光譜橢偏技術(shù)難以同時實現(xiàn)紫外至中紅外的寬波段覆蓋與大角度測量，限制了其在多種材料表征中的應(yīng)用。Flexfilm全光譜橢偏儀可以非接觸對薄膜的厚度與折射率的高精度表征，廣泛應(yīng)用于薄膜材料、半導(dǎo)體和表面科學(xué)等領(lǐng)域。本研究提出了

  光譜 半導(dǎo)體 材料

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• 發(fā)布了文章 2025-11-19 18:02

  NIST研究院：表面粗糙度與臺階高度校準(zhǔn)規(guī)范

  

  在表面形貌的精密測量中，確保不同儀器與實驗室間測量結(jié)果的一致性與可信度，始終是一項關(guān)鍵挑戰(zhàn)。為應(yīng)對該挑戰(zhàn)，本文檔系統(tǒng)闡述了NIST所采用的校準(zhǔn)流程、測量條件及完整的不確定度評估方法，為表面粗糙度與臺階高度的精確計量提供了技術(shù)依據(jù)與權(quán)威支撐。Flexfilm探針式臺階儀可以實現(xiàn)表面微觀特征的精準(zhǔn)表征與關(guān)鍵參數(shù)的定量測量，精確測定樣品的表面臺階高度與膜厚，為材料

  儀器 測量 編碼器

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• 發(fā)布了文章 2025-11-17 18:05

  基板效應(yīng)下OLED有機薄膜的折射率梯度：光譜橢偏法的精確表征與分析

  

  有機發(fā)光二極管（OLED）的性能優(yōu)化高度依賴對其組成材料光學(xué)常數(shù)（特別是復(fù)折射率）的精確掌握。然而，當(dāng)前研究領(lǐng)域存在顯著空白：現(xiàn)有光學(xué)數(shù)據(jù)往往局限于少數(shù)特定材料或窄光譜范圍，且缺乏系統(tǒng)性的基板影響研究。這種數(shù)據(jù)匱乏嚴(yán)重制約了研究人員在材料選擇和器件設(shè)計時做出充分知情的決策。Flexfilm全光譜橢偏儀可以非接觸對薄膜的厚度與折射率的高精度表征，廣泛應(yīng)用于薄膜

  OLED 光譜 薄膜

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