5月17-19日，由中國半導體行業協會、中國電子信息產業發展研究院、江蘇省工業和信息化廳和南京市江北新區管委會聯合主辦的首屆“世界半導體大會”在南京召開，北方華創微電子在“第三代半導體產業發展論壇”上發表了題為《5G芯片的刻蝕需求及NAURA的解決方案》的演講。重點介紹了5G化合物芯片的技術和市場發展情況，以及對刻蝕技術和設備的需求，并展示了北方華創為各種新技術提供的最新解決方案，引起了與會聽眾的高度關注。

隨著5G通訊時代的到來，化合物半導體芯片也出現了越來越多的新應用。5G基站的射頻放大器芯片GaN-on-SiC HEMTs、5G基站電源管理芯片GaN-on-Si HEMTs和SiC MOSFETs、5G終端3D激光傳感芯片GaAs VCSELs等的年復合增長率均在40%以上，市場前景廣闊可期。挑戰與機遇同在，北方華創微電子一直緊跟技術前沿，為5G相關新技術提供了國產化工藝與裝備解決方案。

此外， 在本次會上，北方華創微電子被中國半導體行業協會評為“2018年中國半導體設備五強企業”。同時，公司生產的12英寸等離子體刻蝕機（NMC612系列）、數字式質量流量控制器（CS200）被中國半導體行業協會、中國電子材料行業協會、中國電子專用設備工業協會和中國電子報社聯合評為“第十三屆（2018年度）中國半導體創新產品和技術”。北方華創將繼續秉持以客戶需求為導向的持續創新理念，開展新產品、新工藝研發及創新，致力于為客戶提供更好、更先進的解決方案，助推產業發展。