2019年5月7日，浙江上方電子裝備有限公司成功研制的首臺8.6代新型顯示PVD裝備，順利完成發貨。

上方電子首臺8.6代Array PVD設備發貨儀式

根據CINNO Research供應鏈調查數據顯示，截止2018年底Thin Film設備(包含PVD,CVD等成膜設備)國產化滲透率幾乎為0%,其中PVD設備始終被ULVAC和AKT壟斷，韓國設備商IRUJA在韓國面板廠的扶持下逐漸打破壟斷，隨著上方電子首臺8.6代新型顯示PVD裝備順利完成發貨，標志著我國國產設備商亦開始打破壟斷，實現突破。

中國已成為全球顯示裝備的最大市場，加強磁控濺射PVD等關鍵工藝裝備的國產化配套，是我國顯示產業提升競爭力的關鍵。

上方自主設計并開發的8.6代Array PVD裝備，最大玻璃基板尺寸為2250mm×2600mm，采用旋轉陰極鍍膜技術，可實現薄膜沉積厚度非均勻性<5%，靶材利用率>80%。裝備已獲得國內技術專利11項，具有生產工藝先進、性能穩定、操作簡單、維護保養成本低等優點。該裝備的研發，得到了國家發改委和工信部的裝備國產化項目立項支持。

上方電子8.6代Array PVD設備

PVD設備旋轉陰極鍍膜源

上方8.6代PVD裝備的交付，將進一步推動裝備國產化的進程，有助于全方位提升我國新型顯示產業競爭力。

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TFT LCD工藝介紹

在了解PVD設備前，我們首先了解一下液晶顯示器(TFT LCD)的結構。

上圖為TFT LCD的結構圖，整個器件由背光，TFT基板，液晶，CF基板，上下偏光片等構成。其中，TFT基板上的薄膜晶體管器件(Thin Film Transistor)是控制液晶轉向的關鍵器件，相當于每一個顯示像素的開關的作用。

上圖即為一個經典的五光罩TFT器件的結構圖，它是一個由多層金屬薄膜，無機膜和半導體薄膜構成的復雜結構。這個結構就是通過以下Array工藝制作出來的。

首先在超薄玻璃上使用CVD或者PVD制作薄膜，其中金屬層和ITO層由PVD制作, 絕緣層，半導體層等由CVD制作。然后通過黃光工藝(PHOTO)曝光設備制作我們需要的圖形，最后通過蝕刻(Etching)工藝將多余的部分去除，留下我們需要的圖形薄膜。這樣多次循環后就制作完成了我們需要的TFT器件。

因此，對于整個顯示半導體TFT工藝來說，核心設備即成膜設備(PVD,CVD),曝光設備和蝕刻設備。而這些核心設備技術一直掌握在國外廠商手中，正是這點始終制約了我國由顯示面板大國向顯示面板強國的轉變。

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PVD設備介紹

PVD即物理氣相沉積設備，是顯示半導體生產工藝中非常核心的成膜工藝設備。

下圖為PVD設備的工作原理圖。主要原理為通過高能粒子轟擊靶材使靶材發生濺射，濺射粒子在玻璃基板上沉積形成薄膜。

PVD的核心參數涉及到氣流控制，真空倉壓力控制，電源控制，玻璃溫度控制和磁場控制等。這些參數直接影響到成膜膜厚，成膜均勻度，金屬膜電阻率等關鍵性能，進而影響到TFT器件性能。因此，PVD設備是Array工藝中非常核心的關鍵設備，技術門檻非常高。

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關于上方電子裝備

浙江上方電子裝備有限公司是一家專注于高端電子裝備研發及產業化的高新技術企業，主要產品磁控濺射鍍膜設備、卷對卷柔性鍍膜設備及其相關服務，可廣泛應用于新型顯示、薄膜太陽能及電致變色玻璃領域。公司成立于2011年12月，注冊資金3.25億元，位于浙江紹興。

憑借性能穩定、技術領先、高性價比等優勢，公司設備產品受到客戶青睞，經營業績持續快速增長。公司以客戶為中心，將持續為廣大客戶提供最優質的產品和服務。