国产精品久久久aaaa,日日干夜夜操天天插,亚洲乱熟女香蕉一区二区三区少妇,99精品国产高清一区二区三区,国产成人精品一区二区色戒,久久久国产精品成人免费,亚洲精品毛片久久久久,99久久婷婷国产综合精品电影,国产一区二区三区任你鲁

0
  • 聊天消息
  • 系統消息
  • 評論與回復
登錄后你可以
  • 下載海量資料
  • 學習在線課程
  • 觀看技術視頻
  • 寫文章/發帖/加入社區
會員中心
創作中心

完善資料讓更多小伙伴認識你,還能領取20積分哦,立即完善>

3天內不再提示

基于SiC技術的碳化硅襯底提升LED的發光度

電子設計 ? 來源:郭婷 ? 作者:電子設計 ? 2019-01-17 08:21 ? 次閱讀
加入交流群
微信小助手二維碼

掃碼添加小助手

加入工程師交流群

大多數現代LED由氮化銦鎵(InGaN)和藍寶石襯底組成。該架構運行良好,并使LED制造商能夠提供效率超過150流明/瓦的產品。然而,該架構確實存在一些缺點,這些缺點促使芯片制造商尋求其他選擇。

一種商業上成功的替代方案是碳化硅(SiC),基于該基板的LED已經上市兩年。現在已經發布了新一代技術,有望將目前最亮的單個LED的發光度提高一倍,并將照明燈具的成本降低40%。

本文著眼于SiC技術并描述了基于材料的最新芯片。了解它們與上一代和現代藍寶石襯底LED的比較。

制造挑戰

InGaN是制造當今高亮度白光LED的首選材料。小心地操縱半導體的帶隙,使得LED管芯發射藍色光子,其中大部分被LED的磷光體涂層吸收并在光譜的黃色部分中重新發射。藍光和黃光的混合產生了很好的近似白光。不幸的是,不像大多數集成電路所使用的硅 - 可以廉價生產導致低成本元件 - InGaN難以大規模生產錠。 LED制造商通過使用諸如金屬有機化學氣相沉積(MOCVD)的外延技術克服了這一困難。該工藝克服了生長塊狀InGaN的需要,而是通過在合適的襯底上沉積連續的薄膜來構建材料。

最常見的襯底材料是藍寶石(Al2O3)。該礦物質便宜,耐用,并且具有良好的絕緣體。圖1顯示了藍寶石襯底LED的橫截面。

基于SiC技術的碳化硅襯底提升LED的發光度

圖1:藍寶石襯底LED。

藍寶石的最大缺點是它之間存在很大的不匹配晶格結構和InGaN晶格結構。這種不匹配在制造期間將微裂紋(稱為“穿透位錯”)引入LED結構中,這損害了LED功效,因為在這些位置處發生的電子和空穴之間的重組主要是“非輻射的”。換句話說,沒有發射可見光子。更糟糕的是,微裂紋隨著溫度和老化而增加,縮短了器件的壽命(參見TechZone文章“材料和制造改進提高LED效率”)。這并不是說藍寶石襯底的LED性能很差。幾家主要制造商提供基于該材料的成熟產品。例如,Philips Lumileds的LUXEON T白光LED產生249流明(2.8 V,700 mA),功效為127 lm/W(圖2)。此外,歐司朗的OSLON SSL 150白色能夠產生136流明(3.1 V,350 mA),效率為125流明/瓦。

圖2:飛利浦Lumileds LUXEON T是高性能藍寶石襯底LED。

極高功率LED

SiC被引入作為LED制造的替代品,因為與InGaN的晶格失配遠小于藍寶石。微裂紋仍然可能發生,但缺陷密度顯著降低,提高了效率并延長了LED壽命。主要缺點是相對較高的材料和制造成本以及需要許可費用的專利工藝。

Cree - 也許并不奇怪,因為它擁有許多工藝專利 - 已經支持使用SiC襯底進行LED制造。其首款商用SiC器件XLamp XB-D系列于2012年初發布。這些芯片采用了該公司的“SC 3 ”技術。 XLamp XB-D是97 lm/W器件(350 mA),如果電流達到1 A,可以產生高達213 lm的電流。

該公司最近宣布其下一代SiC LED是現在可以提供樣品。這一次,“極高功率(XHP)”設備采用標有“SC5”的技術。該公司聲稱,與中功率LED相比,新設備將使照明設計人員能夠節省高達40%的系統成本(用于相同的光輸出)[參見TechZone文章“中功率LED為照明應用提供更便宜的替代品”]。這些節省主要是因為相同光輸出需要更少的更亮的LED。

Cree尚未發布XHP設備的完整規格,但解釋說單個設備可以產生1800流明的效率112 lm/W和總耗散量為16.1 W.所有LED隨著時間的推移逐漸消失(一旦設備的輸出低于70%(L70),當新的產品被認為失敗時[參見TechZone文章“確定LED額定壽命:A棘手的挑戰“])和XHP產品也不例外。然而,該公司表示,即使在35,000小時后,LED仍將提供至少90%的原始光度。圖3顯示了一個XHP封裝。

圖3:Cree XHP產生兩倍于現代高功率LED的輸出。

使用該公司的中檔XLamp MX生產1800流明-3S LED--一個104 lm(10.7 V,115 mA)器件,功效為85 lm/W--需要18個器件陣列,總功耗為22.1 W.該公司稱單個XHP LED將會甚至可以生產出目前高功率產品的雙倍流明,例如XM-L2。根據數據表,XM-L2在2.85 V,700 mA時輸出270 lm。

照明燈具中的LED數量越多,需要更大,更復雜的PCB,組裝成本越高,散熱器越多,等等精密光學 - 加入更昂貴的最終產品。 (參見TechZone文章“LED封裝和功效進步提高流明密度”。)

Cree解釋說,使用XHP LED減少芯片數量所節省的40%來自簡化最終產品設計和裝配過程。這沒有考慮到陣列中多個LED配色的額外時間和費用,以確保輸出的均勻性(盡管制造商可以提供克服這一挑戰的LED陣列)。

未來的進一步發展

藍寶石基板LED已經成為固態照明行業的支柱。基于該技術,市場上有許多高性能芯片。然而,在如此競爭激烈的行業中,制造商一直在尋找優勢,據說基于SiC技術的新一代器件可提供比傳統器件更高的發光度 - 允許工程師在同一輸出中使用更少的LED,簡化和在降低成本的同時縮小照明燈具。然而,LED技術還遠未成熟,而藍寶石和SiC是目前的領導者,其他材料 - 包括氮化鎵(GaN)本身;甚至低硅 - 正在開發中(請參閱TechZone文章“硅襯底將LED照明推向主流嗎?”)。一些制造商甚至正在嘗試完全省去基板的LED。

聲明:本文內容及配圖由入駐作者撰寫或者入駐合作網站授權轉載。文章觀點僅代表作者本人,不代表電子發燒友網立場。文章及其配圖僅供工程師學習之用,如有內容侵權或者其他違規問題,請聯系本站處理。 舉報投訴
  • led
    led
    +關注

    關注

    243

    文章

    24596

    瀏覽量

    690856
  • 半導體
    +關注

    關注

    339

    文章

    30737

    瀏覽量

    264138
  • SiC
    SiC
    +關注

    關注

    32

    文章

    3721

    瀏覽量

    69401
收藏 人收藏
加入交流群
微信小助手二維碼

掃碼添加小助手

加入工程師交流群

    評論

    相關推薦
    熱點推薦

    200mm碳化硅襯底厚度與外延厚度的多維度影響

    我們能將碳化硅 (SiC) 襯底厚度推進到多薄而不影響性能?這是我們幾十年來一直在追問的問題,同時我們也在不斷突破碳化硅 (SiC) 材料性
    的頭像 發表于 02-11 15:03 ?180次閱讀
    200mm<b class='flag-5'>碳化硅</b><b class='flag-5'>襯底</b>厚度與外延厚度的多維度影響

    [新啟航]碳化硅 TTV 厚度測量技術的未來發展趨勢與創新方向

    一、引言 碳化硅SiC)作為寬禁帶半導體材料的代表,在功率器件、射頻器件等領域發揮著關鍵作用。總厚度偏差(TTV)是衡量碳化硅襯底及外延片質量的重要指標,其精確測量對保障
    的頭像 發表于 09-22 09:53 ?1792次閱讀
    [新啟航]<b class='flag-5'>碳化硅</b> TTV 厚度測量<b class='flag-5'>技術</b>的未來發展趨勢與創新方向

    碳化硅 TTV 厚度在 CMP 工藝中的反饋控制機制研究

    一、引言 化學機械拋光(CMP)工藝是實現碳化硅SiC襯底全局平坦化的關鍵技術,對提升襯底
    的頭像 發表于 09-11 11:56 ?783次閱讀
    <b class='flag-5'>碳化硅</b> TTV 厚度在 CMP 工藝中的反饋控制機制研究

    探針式碳化硅襯底 TTV 厚度測量儀的操作規范與技巧

    本文圍繞探針式碳化硅襯底 TTV 厚度測量儀,系統闡述其操作規范與實用技巧,通過規范測量流程、分享操作要點,旨在提高測量準確性與效率,為半導體制造過程中碳化硅襯底 TTV 測量提供標準
    的頭像 發表于 08-23 16:22 ?1405次閱讀
    探針式<b class='flag-5'>碳化硅</b><b class='flag-5'>襯底</b> TTV 厚度測量儀的操作規范與技巧

    【新啟航】探針式碳化硅襯底 TTV 厚度測量儀的操作規范與技巧

    摘要 本文圍繞探針式碳化硅襯底 TTV 厚度測量儀,系統闡述其操作規范與實用技巧,通過規范測量流程、分享操作要點,旨在提高測量準確性與效率,為半導體制造過程中碳化硅襯底 TTV 測量提
    的頭像 發表于 08-20 12:01 ?720次閱讀
    【新啟航】探針式<b class='flag-5'>碳化硅</b><b class='flag-5'>襯底</b> TTV 厚度測量儀的操作規范與技巧

    【新啟航】碳化硅襯底 TTV 厚度測量中表面粗糙度對結果的影響研究

    摘要 本文聚焦碳化硅襯底 TTV 厚度測量過程,深入探究表面粗糙度對測量結果的影響機制,通過理論分析與實驗驗證,揭示表面粗糙度與測量誤差的關聯,為優化碳化硅襯底 TTV 測量方法、
    的頭像 發表于 08-18 14:33 ?706次閱讀
    【新啟航】<b class='flag-5'>碳化硅</b><b class='flag-5'>襯底</b> TTV 厚度測量中表面粗糙度對結果的影響研究

    激光干涉法在碳化硅襯底 TTV 厚度測量中的精度提升策略

    摘要 本文針對激光干涉法在碳化硅襯底 TTV 厚度測量中存在的精度問題,深入分析影響測量精度的因素,從設備優化、環境控制、數據處理等多個維度提出精度提升策略,旨在為提高碳化硅
    的頭像 發表于 08-12 13:20 ?1097次閱讀
    激光干涉法在<b class='flag-5'>碳化硅</b><b class='flag-5'>襯底</b> TTV 厚度測量中的精度<b class='flag-5'>提升</b>策略

    【新啟航】如何解決碳化硅襯底 TTV 厚度測量中的各向異性干擾問題

    精確的測量技術支持。 引言 碳化硅SiC)作為第三代半導體材料,憑借其優異的物理化學性能,在高功率、高頻電子器件領域展現出巨大的應用潛力。晶圓總厚度變化(TTV
    的頭像 發表于 08-08 11:38 ?941次閱讀
    【新啟航】如何解決<b class='flag-5'>碳化硅</b><b class='flag-5'>襯底</b> TTV 厚度測量中的各向異性干擾問題

    碳化硅晶圓特性及切割要點

    01襯底碳化硅襯底是第三代半導體材料中氮化鎵、碳化硅應用的基石。碳化硅襯底
    的頭像 發表于 07-15 15:00 ?1180次閱讀
    <b class='flag-5'>碳化硅</b>晶圓特性及切割要點

    超薄碳化硅襯底切割自動對刀精度提升策略

    超薄碳化硅襯底
    的頭像 發表于 07-02 09:49 ?604次閱讀
    超薄<b class='flag-5'>碳化硅</b><b class='flag-5'>襯底</b>切割自動對刀精度<b class='flag-5'>提升</b>策略

    自動對刀技術碳化硅襯底切割起始位置精度的提升及厚度均勻性優化

    摘要:碳化硅襯底切割對起始位置精度與厚度均勻性要求極高,自動對刀技術作為關鍵技術手段,能夠有效提升切割起始位置精度,進而優化厚度均勻性。本文
    的頭像 發表于 06-26 09:46 ?751次閱讀
    自動對刀<b class='flag-5'>技術</b>對<b class='flag-5'>碳化硅</b><b class='flag-5'>襯底</b>切割起始位置精度的<b class='flag-5'>提升</b>及厚度均勻性優化

    基于進給量梯度調節的碳化硅襯底切割厚度均勻性提升技術

    碳化硅襯底切割過程中,厚度不均勻問題嚴重影響其后續應用性能。傳統固定進給量切割方式難以適應材料特性與切割工況變化,基于進給量梯度調節的方法為提升切割厚度均勻性提供了新思路,對推動碳化硅
    的頭像 發表于 06-13 10:07 ?622次閱讀
    基于進給量梯度調節的<b class='flag-5'>碳化硅</b><b class='flag-5'>襯底</b>切割厚度均勻性<b class='flag-5'>提升技術</b>

    切割進給量與碳化硅襯底厚度均勻性的量化關系及工藝優化

    引言 在碳化硅襯底加工過程中,切割進給量是影響其厚度均勻性的關鍵工藝參數。深入探究二者的量化關系,并進行工藝優化,對提升碳化硅襯底質量、滿足
    的頭像 發表于 06-12 10:03 ?659次閱讀
    切割進給量與<b class='flag-5'>碳化硅</b><b class='flag-5'>襯底</b>厚度均勻性的量化關系及工藝優化

    國產SiC碳化硅功率半導體企業引領全球市場格局重構

    SiC碳化硅MOSFET國產化替代浪潮:國產SiC碳化硅功率半導體企業引領全球市場格局重構 1 國產SiC
    的頭像 發表于 06-07 06:17 ?1171次閱讀

    碳化硅何以英飛凌?—— SiC MOSFET性能評價的真相

    碳化硅SiC技術的應用中,許多工程師對SiC的性能評價存在誤解,尤其是關于“單位面積導通電阻(Rsp)”和“高溫漂移”的問題。作為“碳化硅
    的頭像 發表于 04-30 18:21 ?949次閱讀
    <b class='flag-5'>碳化硅</b>何以英飛凌?—— <b class='flag-5'>SiC</b> MOSFET性能評價的真相