光刻設備被譽為“工業技術皇冠上的明珠”，它是電子產業中最核心的裝備。中山新諾科技是一家專門從事于數字化激光光刻設備研發、生產和銷售的高端裝備制造商。 2009年底將在國際上最早發明無掩模曝光的 技術團隊引入國內，2012年獲得廣東省創新團隊的支持。 到2017年9月，新諾科技已完成8個系列光刻設備的研發，累計發、售超過200臺數字化曝光設備。多款光刻設備入選“廣東省首臺套設備”。

在世界范圍內越來越重視知識產權的今天，很多企業因為沒有獨立知識產權而喪失了核心競爭力。新諾科技始終把知識產權作為公司的根本和核心競爭力，掌握了數字化光刻技術的源頭，是國內唯一一家擁有光刻技術原始專利并可在世界范圍內使用的光刻設備制造商，已將光刻設備出口銷往美國、荷蘭、新加坡、韓國和***等國家和地區。新諾科技在原始專利的基礎上，創新出大量自主知識產權：申請專利75項（已授權中國發明17項、實用新型10項、 美國發明3項）；軟件著作權7項；企業標準3項。

技術來源

新諾科技的核心技術源自公司CTO梅文輝博士——世界上首位將數字微鏡陣列（DMD）技術應用于光刻領域的科學家，被光刻行業譽為“The Father of Maskless”（無掩模光刻之父）。

1998~2006年，梅博士在美國球型半導體公司帶領團隊研究無掩模光刻技術，并圍繞這項研究 獲得了100多項專利技術，之后梅博士的無掩模光刻專利被國際上數家大公司采用。

2009~2010 年重組美國球形半導體公司，將梅文輝博士主導的研發團隊集合在一起，利用加拿大Aiscent Tech公司作為平臺，取得LDI發明專利在世界范圍內的使用權，將這項技術和團隊帶回中山新諾科技股份有限公司，重新開始展開研發、生產、銷售無掩模光刻設備的業務，并快 速擴展到多個領域的無掩膜光刻的應用之中。

發展歷程

2017年，客戶端

累計裝機200臺

榮譽資質

知識產權

公司掌握了國際上數字化光刻技術的源頭，擁有數字化光刻技術原始專利并在此基礎上創新出大量自主知識產權：申請專利75項（已授權中國發明17項、實用新型10項、 美國發明3項）；軟件著作權7項；企業標準3項。

技術及主要產品

新諾科技分別開發了適用于高精度電路板、大平板顯示、半導體集成電路、集成電路高密度封裝、觸摸屏、大面積光掩模版、光化學精密加工等領域應用的無掩模光刻設備系列產品。其中已產業化的有：高精密印刷電路板（PCB）數字化光刻（單臺面、雙臺面、全自動連線）設備；激光無掩模雙面LDI設備；集成電路芯片高密度/3D封裝數字化光刻設備；卷到卷柔性線路板激光直接曝光設備；觸摸屏無掩模曝光設備；高精密光掩模和金屬掩模激光直寫曝光設備；TFT/OLED顯示屏數字化光刻設備。國內外的客戶已經超過100多家（包括美國，荷蘭，新加坡，韓國等發達國家，其中雙面數字化光刻設備銷售給國際上最大的光刻設備ASML公司的平行公司ASM Pacific）。

高精度印刷電路板曝光設備

01單臺面激光直接成像曝光系統PCB系統Jupiter 8000系列

應用領域：高精度HDI、內外層板、多層板、軟板量產，快板打樣，多品種小批量生產。

產品特點

適用于濕膜、干膜內外層板曝光制程

高功率低能耗半導體激光器

多光學引擎掃描技術

實時漲縮管控和分區域失真補償技術

02雙臺面直接成像曝光系統PCB系統Jupiter 8000系列

應用領域：高精度HDI、PCB、FPS的高速量產

打樣，多品種小批量生產。

產品特點

采用雙臺面結構

可采用大功率混合波長激光光源

多光學引擎掃描技術

實時漲縮管控和分區域實戰補償技術

03全自動連線直接成像曝光系統PCB系統Jupiter 8000系列

應用領域：廣泛應用于HDI、FPC、硬板結合的內外層線路制程，大批量生產。

產品特點

高功率低能耗固態光源

多光學引擎掃描技術

實時漲縮管控和分區域失真補償技術

全制程兼容性

超高的產能

04絲網直接制版系統PCB系統CTS系列

應用領域：CTS系統是專門針對高精度、大面積網版曝光而實際的直接成像（數字化曝光）設備。主要應用于：電路板印刷（字符、線路、防焊）、工業品印刷、觸摸屏、太陽能電池、工程玻璃及汽車玻璃、印染、陶瓷燈希望印刷行業的絲網曝光制版。

產品特點

兼顧高產能和高精度

無需使用菲林，采用數字化直接成像技術，大幅度降低網版制作的人工、材料成本。資料分辨力最高可至23400dpi，提升網版的生產精度及品質。

更優秀的成像品質和不同耗材的應用性

采用高功率固態光源，方形像素可提供更高的成像質量，高能量可支持傳統的感光材料，光源壽命長，可靠性高，無污染。

低維護成本

采用固態光源和LED光源具有壽命長和維護成本低的優勢。

設備使用能耗低，僅為傳統曝光機的一半。

國內主要客戶