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水平與垂直式石英清洗機工作原理

芯矽科技 ? 2025-12-25 13:38 ? 次閱讀
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半導體制造、光伏產業以及光學元件生產等對精度和潔凈度要求極高的領域,水平式與垂直式石英清洗機發揮著關鍵作用。以下是兩者工作原理的相關介紹:

水平式石英清洗機的工作原理

多槽分段清洗流程

采用酸洗、堿洗、超純水沖洗等獨立模塊,結合高壓噴淋(0.3~0.8MPa)與超聲波/兆聲波技術,分階段清除亞微米級顆粒及復雜結構污染物。例如,針對半導體石英爐管的碳沉積問題,可選配高溫熱解模塊(800℃惰性氣體環境)恢復熱傳導性能。

智能化控制體系

配備7英寸觸摸屏和PLC系統,支持溫度(±1℃)、時間、化學濃度實時調控,并預設多種標準工藝程序。通過物聯網平臺實現遠程診斷與預防性維護,確保設備狀態可控。

高效均勻清洗機制

臥式布局便于大型工件裝卸,兼容2寸至12寸石英舟、Boat等部件,通過定制夾具適配多樣化生產需求。耐腐蝕腔體采用PFA/PTFE材質,關鍵部件壽命達2000小時以上。

垂直式石英清洗機的工作原理

精準低損傷清洗設計

垂直設計減少交叉污染風險,適用于高精度光學元件及薄型石英件。采用低應力夾持系統(氟橡膠吸盤)和靜電消除模塊,避免機械劃傷或靜電吸附2。集成UV紫外線輔助清洗,分解有機物分子鏈,潔凈度可達ISO Class 1級別。

自適應干燥技術組合

旋轉甩干(最高5000rpm)結合梯度升溫烘干,配合氮氣吹掃破除表面張力鎖住的水膜。對于異形結構件,采用分層漸進式干燥策略,先處理底部積水再逐層向上,避免殘留液滴蒸發造成的二次污染。

模塊化擴展能力支撐

支持功能模塊快速切換,如增加等離子清洗單元或真空干燥模塊,滿足先進封裝與第三代半導體(SiC/GaN)工藝需求。

總之,水平式以“高效批量”為核心優勢,適合大規模量產;垂直式則以“精密低損”為特色,適配高端研發與特殊材料加工。兩者均體現了芯矽科技在混合清洗技術、智能化控制及環保節能方面的綜合實力,推動國產設備替代進程并服務于長江存儲、中芯國際等頭部企業產線。

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