優勢

支持FinFET及傳統工藝，低至12nm

完整的層次化物理版圖，包括任意角度和曲線多邊形

支持多用戶并行讀寫OpenAccess數據庫

原理圖驅動版圖(SDL)和工程變更單(ECO)保持版圖設計時的連續性

交互式跟隨指針布線

從其他設計環境導入工藝及顯示文件

與Calibre和Calibre RealTime軟件集成

可在原理圖、版圖和LVS報告之間實現交互顯示，以高亮顯示走線或器件

高亮顯示節點，實現連接可視化

自動抓取特征點可快速、準確的完成版圖

通過參數化單元的自動實例化、實時網絡飛線、布線完成度追蹤、按節點和ECO追蹤的圖形標記/高亮顯示來提高布線效率

完整的IC物理實現環境

Tanner L-Edit IC是一個模擬/混合信號(AMS)IC物理實現環境，提供快速、高效地完成設計版圖所需的全部功能，包括：

原理圖驅動版圖(SDL)功能讓用戶一開始就能創建與原理圖匹配的版圖

高亮顯示節點，實現連接可視化

輸入/輸出Pad坐標及版圖的提取，可輕松生成焊接報告

通過直接讀寫OpenAccess數據庫，L-Edit使用戶能夠與第三方工具共享設計，從而提高您的工作效率。在團隊中工作時，可借助多用戶支持在開始編輯時隱式鎖定單元，然后在關閉窗口時解鎖。直接使用代工廠提供的文件，無需手動設置工藝信息，從而節省時間。利用L-Edit的物理設計功能最大限度地提高效率，減輕CAD經理的支持負擔，憑借平臺獨立性和靈活的許可管理輕松啟動并運行。

L-Edit IC芯片視圖；該版圖工具是一個全面的模擬/混合信號(AMS)IC物理設計環境。

精確創建版圖

L-Edit支持對任意形狀、任意曲線的多邊形執行復雜的布爾運算和派生層操作，提供了更高的精度。可針對對象組執行與、或、異或、減法、擴展和收縮等運算和操作。以任意工藝單位顯示坐標和距離值，并自動在任意形狀周圍添加保護環。通過將多個版圖功能映射到單個按鍵，進一步提高用戶的工作效率。

L-Edit還支持：

在任意圖層上，使用任意角度和曲線多邊形執行完整層次化物理版圖

使用正交、45°、任意角度和曲線繪制模式

以最快的渲染速度查看設計

命令行界面實時顯示操作記錄

L-Edit交互式DRC可在用戶編輯版圖時實時顯示違規，讓用戶第一次就能創建緊湊、無錯誤的版圖。

L-Edit支持參數化單元。可以采用行業標準iPDK（可互操作工藝設計套件）格式或內置的T-Cell格式創建參數化單元。

其他有助于簡化編輯的功能包括：

使用虛擬Layer Palette直接在版圖中更改當前繪制圖層

執行無限次撤消和重做操作

執行任意角度旋轉、翻轉、合并、挖孔和切割操作

通過將指針捕捉到對象的頂點、邊緣、中點、中心點、交點和實例來加速繪制和編輯

一鍵執行水平或垂直對象對齊、對象等距，或水平、垂直或以二維陣列方式平鋪對象

使用基點功能指定編輯操作（例如對象旋轉、翻轉、移動或實例布局）的參考點

高分辨率繪圖引擎支持L-Edit中的各種顯示渲染，包括圖例、標尺、標題等

使用WaferTools在晶圓上填充最大數量的裸片，并給每一個裸片做標記

CurveTools可以快速在版圖中生成倒角和圓角。該工具在處理已轉換為任意角度的曲線對象時，會為走線添加等寬的圓角，

并將多個邊緣處理為一條邊緣

MaskBias可逐層輕松調整掩模大小

FinFET特定功能

這種技術需要改變方法論，新產品L-Edit Advanced可以在16nm和12nm上實現這些改變。Fin格點可以基于晶圓代工廠規則來定義。版圖中每個模塊都定義了走線（寬度、間距）模式。還可以從先前的設計中導入走線模式或將其導出以供未來的設計使用。定義了走線模式后，就會在版圖中定義一個區域并將其與一組走線模式相關聯。

使用PDK中晶圓代工廠提供的程序可支持自動對接。并可生成符合DRC要求的自動對接實例。還可以放置保護環，保護環可根據晶圓代工廠工藝進行參數化和定制。這些保護環可以被打斷和修復。L-Edit支持用戶指定掩膜層的著色顯示。

適用于多樣化環境

利用L-Edit的易用性優勢節省時間和成本：

利用經濟實惠、可定制且易于管理的工具提供強大的功能

可快速上手

使用戶能夠導入和導出GDS、OASIS（來自SEMI）、DXF、Gerber和CIF文件格式

提供多語言菜單（英語、日語、簡體中文、繁體中文、德語、意大利語和俄語）

自定義和過濾Layer Palette，僅顯示文件、當前單元或單元及其層次結構中使用的圖層，讓用戶更快地完成版圖

讓用戶能夠輕松地將版圖復制并粘貼到文檔流程中

其他生產力功能：

面積計算器

支持高分辨率MEMS掩膜文件輸出

輸入/輸出Pad坐標及版圖的提取，可輕松生成焊接報告

創建自動化宏

L-Edit功能強大的UPI允許用戶創建宏，以自動執行版圖操作、圖形處理、批量驗證和高級分析。用戶可以通過將多個版圖功能映射到單個按鍵，進一步提高工作效率。UPI宏采用Python、TCL、C和C++語言編寫，可以直接在L-Edit中執行或編譯為DLL。

L-Edit節點高亮顯示提供連接可視化，以便用戶快速找到/修復LVS問題。

使用交互式DRC隨時修正版圖

L-Edit交互式DRC可在您編輯版圖時實時顯示違規，讓用戶第一次就能創建緊湊、無錯誤的版圖。交互式DRC可同時檢查同一單元中的對象之間以及整個單元層次結構中的對象之間的違規。在編輯過程中顯示相鄰邊之間的距離，并讓交互式DRC不允許繪制或編輯會導致違規的形狀，從而防止違規。