Coherent Astrella? 超快放大器與 KMLabs XUUS4? 高次諧波發生系統相結合，可提供穩定、高質量的相干 EUV 光，光子能量范圍在 25-50 eV 之間，光通量水平可滿足一系列科學應用的需要。

激光器的發明徹底改變了近幾十年來科學技術的面貌。與此類似，最近開發的波長大幅縮短的桌面級相干激光源、EUV 和軟 X 射線也可能會對需要在這些短波長下具有類似激光性能的科學和技術應用產生變革性影響。相干 EUV 是通過高峰值功率超快激光器驅動的高次諧波發生 (HHG) 過程產生的。HHG 光源的應用包括 EUV 平版印刷術、光譜學、顯微鏡以及分子級磁性材料、和納米系統的動態研究。根據應用要求，HHG 光源特性可以進行定制，以獲得高達 30 meV/0.1 nm 的阿秒時間分辨率或能量/光譜分辨率，或實現空間分辨率高達 12 nm 的相干成像。

在 HHG 過程中，強飛秒激光聚焦到氣體介質中，氣體就會在場電離過程中會產生高次諧波。然而，優化實現 HHG 源并不意味著只需將光聚焦到氣體射流或氣室中即可：轉換為 EUV 的效率取決于多個參數，并且可能存在幾個數量級的變化。在早期的實驗中，目標只是觀察高次諧波的產生，這種優化(相位匹配)并非關鍵因素。但隨著這些光源被用于更具挑戰性的現實應用中，實現盡可能高的通量對于成功而言越來越重要。過去，科學家常常僅僅花費 1-3 年的時間就能實現一種光源。即便如此，在 EUV 中進行通量測量仍然很困難且容易出錯，導致光源可能未經過優化且功率不足，從而阻礙了所需應用的成功。成功實施基于 HHG 的 EUV 光源需要采用全面的方法來簡化通量和光譜測量，并實現可靠的 EUV 通量規格。

KMLabs 開發了通過空心波導中的相位匹配轉換來提高 EUV 生成效率的技術，并在其商用 XUUS4? 產品中進一步優化了該技術。主力 HHG“桌面 X 射線激光”系統的三個關鍵要素是：(1) 強大的高平均功率、高重復率飛秒驅動激光器;(2) 用于產生高次諧波的優化實施差動泵浦氣體靶幾何結構;(3) EUV 傳輸系統，旨在最大限度減少損失并管理熱負荷。這樣就有可能為應用提供穩定的高質量輸出光束。KMLabs 數年來一直提供 XUUS4? 系統，作為與 Dragon? 和 Wyvern? 超快激光系統完全集成的指定系統;但是，XUUS4? 和光束線系統可由其他具有適當脈沖持續時間、光束質量和穩定性規格的高質量超快激光器(例如 Coherent Astrella?)驅動。

超短波長桌面級相干激光源、極紫外(EUV)和軟 X 射線技術為激光技術應用迎來了顛覆性的突破。由高峰值功率超快激光器驅動高次諧波(HHG)產生的相干 EUV，已在 EUV 平版印刷、光譜學、顯微鏡及分子動力學研究等領域廣泛應用。然而，穩定的HHG光源制備并非易事。 Coherent Astrella 與 KMLabs XUUS4TM 高次諧波發生系統的協同創新，成功實現 25-50 nm 波長極紫外光的穩定輸出，為科研人員突破技術邊界提供了全新可能。

實現緊湊型 EUV 光源

Astrella 具備穩定可靠的高能量脈沖輸出能力，助力桌面級 EUV 實驗平臺輕松搭建，無需龐大復雜的設備，提高了科研的便利性。

提升 HHG 性能

憑借卓越的脈沖穩定性和光束質量，Astrella確保諧波輸出的一致性和高效率，解決了 HHG 研究中常見的穩定性不足問題，為實驗數據的可靠性提供堅實保障。

倍受科研領域的青睞

Astrella 已在眾多前沿實驗室廣泛應用，支持先進光譜學、材料科學和阿秒物理學等研究領域，其可靠的性能和強大的功能，已成為科研人員探索未知的得力助手。

審核編輯 黃宇