在現(xiàn)代半導(dǎo)體和顯示面板制造中，薄膜厚度的精確測量是確保產(chǎn)品質(zhì)量的關(guān)鍵環(huán)節(jié)。傳統(tǒng)方法如掃描電子顯微鏡（SEM）雖可靠，但無法用于在線檢測；橢圓偏振儀和光譜反射法（SR）雖能無損測量，卻受限于計算效率與精度的矛盾。近期，研究人員提出了一種創(chuàng)新方法——直接相位提取技術(shù)，成功打破了這一技術(shù)瓶頸。FlexFilm單點(diǎn)膜厚儀結(jié)合相位提取技術(shù)通過將復(fù)雜的非線性方程轉(zhuǎn)化為線性問題，在保證納米級精度的同時，將計算速度提升數(shù)百倍，為工業(yè)檢測帶來了革命性突破。

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光譜反射法的原理與挑戰(zhàn)

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光譜反射法（SR）的核心原理是通過分析光在薄膜表面的反射光譜來推算厚度。當(dāng)光入射到薄膜表面時，會在薄膜與基底之間發(fā)生多次反射，這些反射光因路徑差異產(chǎn)生干涉，形成特定的光譜振蕩模式。通過數(shù)學(xué)模型（如Fresnel方程）可建立反射率與薄膜厚度、折射率等參數(shù)的關(guān)系。

光在薄膜中的傳播圖

然而，反射率與厚度之間呈高度非線性關(guān)系，這使得傳統(tǒng)分析方法面臨兩大難題：

1.非線性擬合算法（如Levenberg-Marquardt算法）需通過迭代逼近最優(yōu)解，計算耗時，尤其在大規(guī)模像素分析（如成像光譜反射法ISR）中效率極低。

2.峰值檢測法雖速度快，但對薄膜厚度敏感度低，無法測量1微米以下的薄膜，且誤差較大。

這種速度與精度的矛盾，制約了光譜反射法在工業(yè)在線檢測中的應(yīng)用。

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相位提取技術(shù)：

化非線性為線性的關(guān)鍵

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（a）待分析的反射率隨波長變化的曲線；（b）從（a）中反射率提取出的相位曲線；（c）實(shí)線為提取的相位，虛線為解纏后的相位結(jié)果

研究團(tuán)隊(duì)發(fā)現(xiàn)，若能將反射信號中的相位信息直接提取出來，即可將復(fù)雜的非線性方程轉(zhuǎn)化為線性問題。這一思路基于以下物理規(guī)律：

相位與厚度的線性關(guān)系

根據(jù)Fresnel方程，光在薄膜中傳播的相位變化（β）與厚度（d）成正比：

其中，N2為薄膜折射率，θ2為折射角。若能提取β，即可通過線性方程直接計算d。

相位提取的數(shù)學(xué)實(shí)現(xiàn)

研究團(tuán)隊(duì)提出一個關(guān)鍵假設(shè)：薄膜材料的消光系數(shù)極低（如二氧化硅、氮化硅等常見工業(yè)材料）。在此條件下，折射率為實(shí)數(shù)，F(xiàn)resnel反射系數(shù)簡化為實(shí)數(shù)，從而將反射率方程拆解為相位相關(guān)的線性組合。通過數(shù)學(xué)變換，最終推導(dǎo)出相位提取公式：

其中，A和B為反射系數(shù)的實(shí)部與虛部，X為與反射率相關(guān)的中間變量。

相位解包裹（Phase Unwrapping）

由于反三角函數(shù)的多值性，提取的相位可能存在周期性跳變。研究團(tuán)隊(duì)通過相位解包裹算法消除跳變，最終得到連續(xù)的相位-波長曲線，進(jìn)而直接計算薄膜厚度。

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性能驗(yàn)證：仿真與實(shí)驗(yàn)

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為驗(yàn)證方法的可靠性，團(tuán)隊(duì)通過仿真和兩類實(shí)驗(yàn)（單點(diǎn)光譜反射儀SR與成像光譜反射儀ISR）進(jìn)行了全面測試。

仿真結(jié)果

在100 nm至4 μm的厚度范圍內(nèi)，仿真誤差始終低于0.01%。尤其值得注意的是，誤差不隨厚度增加而累積，表明該方法在寬范圍內(nèi)均具備高穩(wěn)定性。

相位提取技術(shù)仿真結(jié)果圖

單點(diǎn)SR實(shí)驗(yàn)

SR 系統(tǒng)由反射探針和光譜儀組成，使用商用橢偏儀標(biāo)定的二氧化硅樣品（厚度2918–20775 ?）進(jìn)行對比測試。結(jié)果顯示：

相位提取法最大誤差小于40 ?（約0.13%），與非線性擬合法精度相當(dāng)。

峰值檢測法對3000 ?以下薄膜完全失效，且最大誤差超過600 ?。

光譜反射計系統(tǒng)原理圖

成像ISR實(shí)驗(yàn)

成像光譜反射計系統(tǒng)示意圖

體積厚度由ISR 測量，以驗(yàn)證計算速度。該實(shí)驗(yàn)的 ISR 系統(tǒng)的硬件配置如上圖所示，主要用于測量薄膜的體積厚度。

采用相機(jī)和聲光可調(diào)濾波器（AOTF）進(jìn)行面掃描測量。結(jié)果顯示：

計算時間僅需2.6秒，比非線性擬合（320秒）快120倍，與峰值檢測法（2.4秒）相當(dāng)。

厚度分布圖清晰呈現(xiàn)了850–900 nm的臺階結(jié)構(gòu)，水平剖面線誤差在±1 nm以內(nèi)。

薄膜厚度在水平方向上的變化圖

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薄膜厚度檢測技術(shù)的工業(yè)化潛力

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速度與精度兼得：解決了傳統(tǒng)方法的“魚與熊掌”難題，尤其適用于需要快速面掃描的ISR系統(tǒng)。

無需初始參數(shù)：擺脫了非線性擬合對初始值的依賴，避免局部最優(yōu)陷阱。

適用性廣：支持從100 nm至數(shù)微米的厚度測量，覆蓋半導(dǎo)體、顯示面板等主流工藝需求。

本文通過提取光譜相位計算薄膜厚度，將非線性方程線性化，計算速度大幅提升，仿真和實(shí)驗(yàn)驗(yàn)證其在寬厚度范圍高精度。在ISR 系統(tǒng)中優(yōu)勢明顯，計算簡單快速且精度高，還避免局部極小值問題。總體而言，該方法是顯示和半導(dǎo)體行業(yè)薄膜厚度測量的有用工具。

FlexFilm單點(diǎn)膜厚儀

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FlexFilm單點(diǎn)膜厚儀是一款專為納米級薄膜測量設(shè)計的國產(chǎn)高精度設(shè)備，采用光學(xué)干涉技術(shù)實(shí)現(xiàn)無損檢測，測量精度達(dá)±0.1nm，1秒內(nèi)即可完成測試，顯著提升產(chǎn)線效率。

1.高精度測量：光學(xué)干涉技術(shù)，精度±0.1nm，1秒完成測量，提升產(chǎn)線效率。

2.智能靈活適配：波長覆蓋380-3000nm，內(nèi)置多算法，一鍵切換材料模型。

3.穩(wěn)定耐用：光強(qiáng)均勻穩(wěn)定（CV＜1%）年均維護(hù)成本降低60%。

4.便攜易用：整機(jī)＜3kg，軟件一鍵操作，無需專業(yè)培訓(xùn)。

FlexFilm單點(diǎn)膜厚儀可結(jié)合相位提取技術(shù)為精密制造提供了一把“快而準(zhǔn)的尺子”，在半導(dǎo)體制造過程中實(shí)時監(jiān)測薄膜的沉積和生長厚度。搭建各種光譜實(shí)驗(yàn)平臺，實(shí)現(xiàn)對各種材料的光學(xué)特性、膜厚、材料的反射率、透過率等光譜特性的測試和分析實(shí)驗(yàn)。

原文出處:《Fast Analysis of Film Thickness in Spectroscopic Reflectometry using Direct Phase Extraction》

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