單片雙向開關(BDS)被業界視為電力電子性能實現跨越式發展的關鍵推動者。基于橫向氮化鎵(GaN)高電子遷移率晶體管(HEMT)的技術具有獨特優勢,可有效應用于BDS器件開發。本文將概述BDS的應用場景,并重點介紹即將實現商業化的新一代GaN BDS器件系列。
雙向開關應用解析
傳統MOSFET或IGBT開關通常僅具備正向導通與反向阻斷功能。雖然通過MOSFET體二極管或IGBT反并聯二極管可實現第三象限導通,但這種反向傳導缺乏柵極控制能力。要實現可控雙向導通,通常需要將兩個傳統器件背對背(B2B)連接。
這種配置會使導通電阻(RDSON)翻倍,因此必須并聯多個器件才能達到單向開關的阻抗水平。而單片集成式四象限操作器件能通過單一器件替代四個有源開關,顯著降低系統復雜度與體積。采用GaN材料的BDS器件憑借更低損耗和更快開關速度,在特定應用中較傳統硅基器件更具優勢。
以下是BDS發揮關鍵作用的典型應用場景:
交流開關:雙向AC-AC功率傳輸在太陽能微逆變器中極具吸引力。傳統方案需建立直流母線電壓再進行AC轉換,不僅需要大容量DC-link電容,兩級轉換也導致效率損失。采用AC開關可實現單級隔離功率轉換,車載充電器(OBC)同樣受益。矩陣變換器概念提出45年來,通過9個BDS器件連接三相端口即可實現電壓、頻率和功率因數調節。相比傳統變頻驅動器(VFD)的AC-DC-AC兩級轉換方案,BDS方案能消除諧波干擾、實現能量回饋,同時省去笨重的DC-link電容。鑒于VFD消耗工業用電60%以上,BDS技術在提升功率密度、可靠性和效率方面的優勢將產生重大影響,甚至可實現電機驅動器一體化集成。
AC-DC變換器中B2B開關的替代:以維也納整流器為例,其B2B開關將直流中點回饋至交流側,用于輸入電感電流補償和諧波抑制。采用GaN BDS單片替代多器件組合,既能減少元件數量,又可憑借快速開關特性縮小無源元件體積。類似優勢也體現在T型變換器和HERIC逆變器中,這些三電平拓撲中的BDS器件僅需承受一半直流母線電壓。
電流源逆變器(CSI):CSI為感應電機提供定子電流,正弦波電流可顯著提升電機可靠性。CSI的大電感具備天然過載保護能力,但需要雙向電壓阻斷開關。雖然CSI存在控制復雜等挑戰,但在大功率電機驅動、電動飛機和高壓直流輸電領域優勢明顯。GaN BDS已成功應用于CSI設計,在滿足雙向阻斷需求的同時,單向電流傳導特性可簡化柵極控制。
交流固態斷路器(SCCB)與電池隔離:AC SCCB要求器件具備雙向導通、強過壓耐受、低導通電阻、快速響應(μs級故障清除)等特性。GaN BDS替代機械斷路器或MOSFET/IGBT反串聯組合,可減少芯片數量并提升效率。其無顯著Spirito效應的特點,也避免了硅基器件安全工作區(SOA)受限的問題。手機/筆記本充電電路的電池隔離開關采用源極合并單柵極架構,導通電阻可低于10mΩ。
高壓GaN BDS技術突破
英飛凌2025寬禁帶開發者論壇披露了CoolGaN? HV BDS技術細節。基于柵極注入晶體管(GIT)技術的650V/850V器件采用中央漏極合并設計,連接雙柵極-源極架構。針對靜態電池隔離應用的中壓BDS(40-120V)則采用肖特基柵HEMT技術,呈現雙漏極單柵極架構。
圖1展示了HV BDS的四種工作模式:雙柵極開啟時實現雙向導通;單柵極工作時呈現二極管特性,截止柵極在源漏電壓超過有效閾值(Vth-Vgs)時觸發導通(GIT器件<2V);雙柵極關閉時則實現超額定電壓阻斷。
圖1關鍵技術突破在于襯底電位動態控制——通過智能GaN技術將襯底實時連接至最低電位源極,既避免非對稱導通,又防止背偏壓導致的RDSON升高。圖2顯示,在100kHz開關頻率下,相比RDSON相同的Si/SiC MOSFET B2B方案,GaN BDS能顯著降低損耗。共享漏極設計提升比導通電阻特性,減小芯片面積并降低動態損耗。該器件還具備自限流短路保護能力,可通過10-100μs重復測試,性能遠超單向GaN HEMT。
圖2650V HV BDS將于2025Q2量產,提供25mΩ/110mΩ規格的TOLT和DSO TSC封裝。未來路線圖包含850V器件。針對CSI應用的創新混合BDS方案,通過常開型(d-mode)與增強型HEMT組合,利用柵源級聯肖特基二極管控制關斷,簡化柵極驅動設計。
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氮化鎵單片雙向開關:電力電子技術的下一代突破
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