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芯片前端和后端制造工藝的區別

閃德半導體 ? 來源:半導體工藝與設備 ? 2025-02-12 11:27 ? 次閱讀
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通常,我們將芯片的生產過程劃分為前端制程和后端制程兩大階段,其中前端制程專注于芯片的制造,而后端制程則關注于芯片的封裝。進一步細分,前端制程還可以被分為前端工藝(簡稱FEOL)與后端工藝(簡稱BEOL)。簡而言之,前端工藝主要負責制造如晶體管這樣的有源器件,而后端工藝則側重于實現這些器件之間通過多層布線進行的互連。為了更好地理解這一過程,可以參考下面的圖示進行對照。

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從圖示中可以理解到,前端工藝扮演著基石的角色,通常處于構造的最底部;而后端工藝則是在此基礎上進行進一步的構建和擴展。FEOL(前端工藝)與BEOL(后端工藝)之間通過MOL(中道工藝層)實現連接。MOL主要由精細的金屬構造組成,它們充當晶體管源極、漏極以及柵極的接觸點,并將這些接觸點與BEOL中的局部互聯層連接起來。

FEOL制造工藝的基本步驟

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BEOL制造工藝的基本步驟

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本文內容源于【半導體工藝與設備】

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原文標題:芯片制造中的前端與后端處理技術

文章出處:【微信號:閃德半導體,微信公眾號:閃德半導體】歡迎添加關注!文章轉載請注明出處。

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