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MOSFET并聯(lián)在高功率設計中的應用

薩瑞微電子 ? 2024-12-04 01:07 ? 次閱讀
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在高功率電子設計中,為了滿足更大的電流需求和提升系統(tǒng)可靠性,常常需要將多個MOSFET器件并聯(lián)使用。

然而,MOSFET的并聯(lián)應用并非簡單的器件堆疊,它涉及諸多技術挑戰(zhàn),如電流均衡、熱管理和驅(qū)動匹配等。本文將從專業(yè)的角度,詳細探討MOSFET并聯(lián)在高功率設計中的原理、挑戰(zhàn)、解決方案和實際應用。

隨著電力電子技術的快速發(fā)展,MOSFET(金屬氧化物半導體場效應晶體管)以其開關速度快、導通電阻低和驅(qū)動簡單等優(yōu)勢,廣泛應用于開關電源逆變器電機驅(qū)動等領域。在高功率應用中,單個MOSFET可能無法承受所需的高電流或功率,因此,采用多個MOSFET并聯(lián)的方式成為常見的解決方案。然而,MOSFET并聯(lián)涉及復雜的電氣和熱設計挑戰(zhàn),必須謹慎處理。

MOSFET并聯(lián)電機驅(qū)動

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電路的MCU是輸出直流信號,但它的驅(qū)動能力是有限的,如需要驅(qū)動較大功率MOS管,來產(chǎn)生大電流驅(qū)動電機,設計占空比大小比例達到調(diào)整轉(zhuǎn)速目的。

電機驅(qū)動主要采用N溝道MOSFET構建H橋驅(qū)動電路,H橋是典型的直流電機控制電路,因為它的電路外形類似字母H,故曰“H 橋”。4個開關MOS組成H的4條垂直腿,而電機就是H中的橫杠。為使電機正常運轉(zhuǎn),電路要求對角線上的一對MOS是導通的,應用不同電流方向來達到控制電機正反轉(zhuǎn)的目的。

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MOSFET應用選型

TOLL選型參數(shù)表

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為了便于研究MOSFET并聯(lián)時的電流均流特性,進行了簡化處理,研究了以下MOSFET并聯(lián)時的均流特性。

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MOSFET并聯(lián)面臨的挑戰(zhàn)

閾值電壓不匹配電流不均衡

由于制造工藝的差異,即使是同一批次的MOSFET,其閾值電壓(VTH)、導通電阻(RDS(on))和跨導(gm)等參數(shù)也存在偏差。這些差異會導致并聯(lián)器件之間的電流分配不均,可能導致個別器件過載。

多管并聯(lián)應用參數(shù)設計影響均流效果

當并聯(lián)的兩個MOSFETs具有相同的參數(shù),如內(nèi)在閾值電壓(Vth)、Rg和Ciss時,它們的開通能量(Eon)和關斷能量(Eoff)非常相似,功率損耗的差距僅為0.01W。當2號MOSFET被Vth較低的器件替換時,其Eon和Eoff顯著增大,功率損耗比Vth較高的1號MOSFET器件高出1.87W,如表1所示。

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Two MOSFETs parallel Test Result (Ton=250ns, Toff=100ns, Fs=10KHz)▲

MOSFET開關速度是影響電流平衡的另一個因素。在測試中,采用了更長的開通時間(Ton)和關斷時間(Toff),以及較高的外部驅(qū)動電阻Rg,此時不同Vth的器件之間的功率損耗差距會變大,如表2所示。當關斷時間為100ns時,Vth較低的2號MOSFET與1號MOSFET之間的總功率損耗差(包括開關損耗和導通損耗)約為1.87W;而當關斷時間為300ns時,功率損耗差距將增大到4.46W。其原因在于,當關斷時間更長時,兩個MOSFET的Vgs達到Vth的間隔時間變長,從而使得功率損耗差距也變大。

根據(jù)測試結果,具有相同Vth值的MOSFET并聯(lián)時,MOSFET外部驅(qū)動速度的快慢是實現(xiàn)更好電流平衡性能的關鍵因素。

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Two MOSFETs Parallel Test Result (Ton=380ns, Toff=300ns, Fs=10KHz)▲

MOSFET柵極驅(qū)動不匹配電流不平衡

驅(qū)動參數(shù)的一致性,包括驅(qū)動回路的電阻電容和電感,是影響電流平衡特性的另一個因素。

當兩個MOSFET并聯(lián)且其驅(qū)動回路的電容不同,具有較大輸入電容(Ciss)的MOSFET的開通時刻將比另一個MOSFET延遲,這會導致具有較大Ciss的MOSFET的開通能量(Eon)較小。然而,關斷過程則不同,較大的Ciss會導致關斷時刻延遲,從而導致較大的關斷能量(Eoff)。

通常情況下,當兩個MOSFET并聯(lián)時,具有較大Ciss的MOSFET的Eon較小,但Eoff較大。

MOSFET的輸入電容或驅(qū)動回路對Eon和Eoff具有相反的影響。如果一個MOSFET的Ciss高于其他并聯(lián)MOSFET的Ciss,其Eon將減小,而Eoff則會增大。實際上,在某些條件下,Eon和Eoff的總和可以進行權衡,進而達到最小值。因此,不同Ciss對電流平衡的影響可以忽略不計,如圖1所示。在實際應用中,建議Toff應約為Ton的40%以實現(xiàn)最佳系統(tǒng)設計。

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Ciss Variation Ratio vs Switching Loss Gap | 1 圖▲

驅(qū)動參數(shù)優(yōu)化與電流共享

外部Rg選擇對電流平衡的影響

柵極驅(qū)動回路的一致性將極大地影響電流平衡性能。驅(qū)動回路應保持一致,以滿足電流平衡的要求。其次,為了滿足系統(tǒng)效率的要求,開關速度應盡可能快。更快的開關速度將導致并聯(lián)MOSFET之間的開關損耗差距變小,如圖2所示。然而,快速的開關速度可能會引發(fā)過大的電壓尖峰,如圖3所示,因此電流平衡特性和電壓尖峰之間存在權衡,在系統(tǒng)設計中應找到平衡點。

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Differences in Total Switch Losses Under Different Rg | 2 圖▲

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Vds Spike Voltage vs Rgoff | 3 圖▲

結論

在高電流并聯(lián)應用中,影響電流一致性的因素主要來自兩個方面:一是MOSFET參數(shù)的一致性,如Vth和Ciss;二是應用中驅(qū)動回路設計和功率回路設計的不一致性。對于MOSFET制造商來說,控制生產(chǎn)工藝以獲得參數(shù)一致性至關重要。從應用角度來看,合適的驅(qū)動設計、一致的驅(qū)動回路和功率回路電感設計同樣是確保電流一致性的關鍵因素。

聲明:本文內(nèi)容及配圖由入駐作者撰寫或者入駐合作網(wǎng)站授權轉(zhuǎn)載。文章觀點僅代表作者本人,不代表電子發(fā)燒友網(wǎng)立場。文章及其配圖僅供工程師學習之用,如有內(nèi)容侵權或者其他違規(guī)問題,請聯(lián)系本站處理。 舉報投訴
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