本文介紹了為什么干法刻蝕又叫低溫等離子體刻蝕。

什么是低溫等離子體刻蝕，除了低溫難道還有高溫嗎？等離子體的溫度？

等離子體是物質的第四態，并不是只有半導體制造或工業領域中才會有等離子體。等離子體廣泛存在于自然界中，如閃電，太陽表面都會有大量的等離子體產生，因為等離子體的實質是氣體的電離。自然界的等離子體的核心溫度可以達到13500℃左右，即高溫等離子體，因此對于工業生產并無太大作用。 而低溫等離子體是一種人造的等離子體，通過等離子體提供能量，代替熱量，促進化學反應的迅速發生，一般溫度從室溫到幾百攝氏度之間。 人造等離子體如何產生？

1，降低腔體壓力。首先使用真空泵將腔體內的壓力降低到一定的數值，低氣壓有助于控制等離子體的穩定性，使氣體更容易被電離。

2，引入工藝氣體。向腔體中引入特定的工藝氣體。這些氣體將成為等離子體中的主要粒子來源。

3，激發等離子體。采用電源將氣體電離，從而形成等離子體。

4，關閉等離子體并恢復到大氣壓力。 低溫等離子體在半導體制造中的用途？ 在干法刻蝕，PVD，CVD，ALD，離子注入，灰化，終點檢測等都有應用。