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提高紅光LD芯片的抗COD(災變性光學鏡面損傷)能力有哪些方法

芯片工藝技術 ? 來源:芯片工藝技術 ? 2024-11-13 11:45 ? 次閱讀
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對于單顆輸出光功率超過500mW的激光器芯片已經是大功率激光器芯片了。轉換效率根據材料的不同而不同,像紅光的目前大功率也能達到50%,剩余的電能就轉換成熱能。

對于小功率的LD,比如光通信用的mw級別的,一般也很少考慮腔面災變。大功率激光器芯片就容易發生腔面的災變Catastrophic optical damage,COD。光學災變損傷,亦稱災變性光學鏡面損傷(Catastrophic optical mirror damage,COMD),是大功率激光器的一種故障模式。

通常我們會認為COD的產生是由于半導體PN結因超過功率密度而過載,并吸收了太多增益產生的光能,最終導致腔面區域的熔化、再結晶,而受影響的區域將產生大量的晶格缺陷,破壞了器件的性能。當影響的區域足夠大時,我們便將在光學顯微鏡下觀察到的腔面變黑以及裂縫、溝槽等現象,稱之為“外COD機制”。

提高紅光芯片的抗COD(災變性光學鏡面損傷)能力可以通過多種方法實現,主要包括材料選擇、非吸收窗口技術和芯片設計優化等方面。

材料選擇:

使用高質量的材料是提高抗COD能力的基礎。例如,AlGaInP材料在紅光譜段表現出較好的性能,可以用于制備高效率的紅光LED

在Micro LED芯片中,采用銦鎵氮(InGaN)材料,并結合V形坑技術,可以有效緩解高In組分的偏析,從而提高芯片的整體性能。

非吸收窗口技術:

非吸收窗口技術是一種有效的方法,可以顯著降低激光器芯片的光吸收,從而抑制COD的產生。例如,利用Zn擴散形成非吸收窗口的技術,可以制備大功率660nm半導體激光器,其端面光吸收降低,有助于抑制COD。

芯片設計優化:

在芯片設計階段,可以通過優化結構和參數來提高抗COD能力。例如,通過對載流子的局域性控制,可以大幅降低表面非輻射復合對內量子效率的影響,從而提高芯片的整體性能。

在材料外延階段,也可以進行優化,以確保材料的均勻性和穩定性,從而提高芯片的耐COD能力。

其他技術手段:

提高激光器芯片的轉換效率也是一個重要方向。對于單顆輸出光功率超過500mW的激光器芯片,轉換效率可以達到50%,剩余的電能轉換成熱能,這有助于減少芯片的溫度,從而提高其抗COD能力。

綜上所述,通過綜合運用高質量材料、非吸收窗口技術、芯片設計優化以及其他相關技術手段,可以有效提高紅光芯片的抗COD能力,從而提升其整體性能和可靠性。

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黑色斷點的位置就是發生COD的位置

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COD發生之后,AR面會有這種小的缺陷或者黑點出現。

一旦發生COD,芯片就會不可逆轉的損耗,一般是光功率下降50%以上,甚至無光。如何提高芯片耐COD的能力呢。可以在材料外延階段、芯片設計階段、芯片工藝階段、以及芯片端面腔面處理方面做文章。

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提高芯片耐COD的幾種方案:

1應變量子阱技術

量子阱作為半導體激光器最廣泛采用的有源區,其內部表現出量子化的子帶和階梯狀態密度,將大大提高激光器的閾值電流密度和溫度穩定性;通過改變勢阱寬度和勢壘高度,可以改變量子化的能量間隔,實現激光器的可調諧特性,與傳統的雙異質結半導體激光器相比,可以有效地降低激光器的閾值電流,提高量子效率與微分增益?而在量子阱中引入應變則會顯著地改變其本身的能帶結構,通過調整價帶中的重?輕空穴帶的位置,從而增加芯片外延結構的設計參數和自由度?一般來說,在III-V族三元和四元材料組成的量子阱外延結構中引入壓應變,會加劇能帶函數的變化,從而降低激光器的閾值電流;而引入張應變,則會平緩能帶函數,在一定程度上提高材料在大功率下工作狀態下的增益?應變量子阱的出現使得通過調節應變獲得所需能帶結構并提高增益成為了可能,使半導體激光器的性能出現了大的飛躍? 1984年,Laidig等最早報道了基于應變InGaAs/GaAs量子阱的激光器,在較高的閾值電流密度(1.1kA/cm2)下獲得了波長為1μm的激光,通過完善工藝將閾值電流密度降低到465A/cm2?1991年AT&TBell實驗室利用MBE方法降低了閾值電流———低至45A/cm2,基本達到理論極限[23]?1993年7月,日本的Hayakawa等利用GaAs/AlGaAs張應變量子阱得到了輸出波長在780nm的橫磁(TM)模CW激光器?

2無鋁量子阱技術

無鋁材料激光器相比有鋁材料激光器具有明顯的優勢:

1)無鋁材料比含鋁材料具有更高的COMD功率密度?有源區中的鋁容易氧化和產生暗線缺陷,致使發生COMD時的功率密度減小,更容易產生COMD,從而限制了激光器的功率和壽命?

2)同時,相對于含鋁量子阱,無鋁量子阱的電阻更低?熱導率更高,因而表面復合速率低?表面溫升低?腔面退化速率慢,對暗線缺陷的攀移有抑制作用,且材料內部退化速率慢?在1998年,美國的Pendse等最初提出,無鋁量子阱激光器具有更高的可靠性?1999年,美國的Mawsi等對與GaAs晶格匹配的InGaAsP單量子阱激光器的可靠性進行了研究,證明了無鋁器件的端面溫升比含鋁的AlGaAs激光器低得多,并在10℃工作溫度下,獲得了3.2W的最大輸出功率?2008年,中國電子科技集團公司第十三研究所報道了無鋁1mm腔長的準連續陣列輸出功率可達40W,無鋁1cm長的鍍膜bar條在180A工作電流下,輸出功率大于185W?2013年,山東大學報道了無鋁有源區在20A工作電流下,輸出功率達20.86W的激光器?

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原文標題:紅光LD芯片的抗COD(災變性光學鏡面損傷)能力

文章出處:【微信號:dingg6602,微信公眾號:芯片工藝技術】歡迎添加關注!文章轉載請注明出處。

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