據可靠消息來源 yeux1122 在其 Naver 博客中透露，蘋果公司正在進行一項全新的抗反射光學涂層技術測試，旨在降低鏡頭炫光及鬼影等問題，進一步提升手機照片畫質。

據悉，蘋果正在尋求采用全新原子層沉積（ALD）設備來改良iPhone相機鏡頭的生產工藝。

原子層次沉積（ALD）乃是一種采用連續氣相化學反應方式在基板表面對物質實行逐層鍍膜的工藝。無疑，ALD為一種精密納米技術，能夠精準控制并完成納米級別超薄薄膜沉積。

在相機鏡頭領域，ALD工藝主要用于噴涂抗反射涂層，以減輕攝影中的偽影現象。如在強烈陽光直射鏡頭時，可能導致拍攝出的圖像出現條紋或光暈，但通過ALD處理，可有效減少此類圖像失真情況。

除此之外，ALD所用材料還能保護相機鏡頭免受環境因素破壞，且不影響傳感器捕捉光線的效能。

文章指出，蘋果計劃將此工藝運用至iPhone的Pro機型中，有望在iPhone16 Pro系列乃至明年的iPhone17 Pro系列上得到體現。