一、引言 全球半導(dǎo)體短缺已持續(xù)多年,汽車電子、物聯(lián)網(wǎng)等下游領(lǐng)域需求激增與晶圓產(chǎn)能不足形成尖銳矛盾,成熟制程(28nm及以上)作為支撐終端產(chǎn)品生產(chǎn)的核心產(chǎn)能,其激活與釋放成為破解短缺困境
發(fā)表于 03-02 11:02
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漲價(jià)的風(fēng)還是吹到了功率半導(dǎo)體;在全球上游原材料及關(guān)鍵貴金屬價(jià)格攀升的背景下,功率半導(dǎo)體廠商開(kāi)啟漲價(jià)潮。 在2月25日,國(guó)產(chǎn)功率半導(dǎo)體廠商新潔
發(fā)表于 02-26 18:34
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作把關(guān)。然而一般所指的半導(dǎo)體測(cè)試則是指晶圓制造與IC封裝之后,以檢測(cè)晶圓及封裝后IC的電信功能與外觀而存在的測(cè)試制程。以下即針對(duì)「半導(dǎo)體測(cè)試制程」中之各項(xiàng)
發(fā)表于 01-16 10:04
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在 98% 以上,基本追平國(guó)際主流水平。而且他們還開(kāi)放了 “定制化芯片設(shè)計(jì)服務(wù)”,中小廠商不用再依賴進(jìn)口,成本直接砍了 30%。
有人說(shuō) “先進(jìn)制程才是王道”,但實(shí)際應(yīng)用里,14nm 才是 “性價(jià)比王者” 啊!你們覺(jué)得國(guó)產(chǎn)芯片現(xiàn)
發(fā)表于 11-25 21:03
11月14日,世界集成電路協(xié)會(huì)(WICA)主辦的“2025全球半導(dǎo)體市場(chǎng)峰會(huì)”在上海成功召開(kāi)。本次峰會(huì)發(fā)布了2026全球半導(dǎo)體市場(chǎng)趨勢(shì)展望暨2025中國(guó)半導(dǎo)體企業(yè)影響
發(fā)表于 11-24 15:50
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11月14日,在上海舉辦的2025全球半導(dǎo)體市場(chǎng)峰會(huì)上,世界集成電路協(xié)會(huì)(WICA)重磅發(fā)布了《2026全球半導(dǎo)體市場(chǎng)趨勢(shì)展望暨2025中國(guó)半導(dǎo)體企業(yè)影響
發(fā)表于 11-20 17:01
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去除(如蝕刻殘留、聚合物),以及先進(jìn)制程(如28nm以下節(jié)點(diǎn))的預(yù)處理。 作用機(jī)制:高溫可加速硫酸的氧化性和雙氧水的分解,生成活性氧(O),將有機(jī)物徹底氧化為CO?和H?O,同時(shí)增強(qiáng)對(duì)金屬雜質(zhì)的溶解能力。 典型參數(shù):H?SO?:H?O?配比通常
發(fā)表于 11-11 10:32
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研發(fā)到量產(chǎn)的跨越,65nm產(chǎn)品已開(kāi)始送樣驗(yàn)證。 ? 掩模版也稱光罩,是集成電路制造過(guò)程中的圖形轉(zhuǎn)移工具或者母板,載著圖形信息和工藝技術(shù)信息,廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體、平板顯示、電路板、觸控屏等領(lǐng)域。掩模版的作用是將承載的電路圖形通過(guò)曝光的方式轉(zhuǎn)移到硅
發(fā)表于 07-30 09:19
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面對(duì)近來(lái)全球大廠陸續(xù)停產(chǎn)LPDDR4/4X以及DDR4內(nèi)存顆粒所帶來(lái)的巨大供應(yīng)短缺,芯動(dòng)科技憑借行業(yè)首屈一指的內(nèi)存接口開(kāi)發(fā)能力,服務(wù)客戶痛點(diǎn),率先在全球多個(gè)主流28nm和22nm工藝節(jié)點(diǎn)上,系統(tǒng)布局
發(fā)表于 07-08 14:41
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市場(chǎng)最具影響力企業(yè)” 獎(jiǎng)項(xiàng)。這一榮譽(yù)不僅是對(duì)旋極星源過(guò)往成就的高度肯定,更彰顯了其在國(guó)家大力推動(dòng)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)自立自強(qiáng)背景下的關(guān)鍵作用與巨大潛力。
發(fā)表于 06-25 15:50
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近日,2025世界半導(dǎo)體大會(huì)在南京舉辦。作為中國(guó)半導(dǎo)體領(lǐng)域極具影響力和標(biāo)志性的行業(yè)會(huì)議,大會(huì)緊扣IC設(shè)計(jì)、晶圓制造等核心技術(shù)趨勢(shì)。四維圖新旗下杰發(fā)
發(fā)表于 06-25 14:05
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在半導(dǎo)體制造領(lǐng)域,工藝制程對(duì)溫度控制的精度和響應(yīng)速度要求嚴(yán)苛。半導(dǎo)體制冷機(jī)chiller實(shí)現(xiàn)快速升降溫及±0.5℃精度控制。一、半導(dǎo)體制冷機(jī)chiller技術(shù)原理與核心優(yōu)勢(shì)
發(fā)表于 05-22 15:31
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在半導(dǎo)體制造中,清洗工藝貫穿于光刻、刻蝕、沉積等關(guān)鍵流程,并在單晶硅片制備階段發(fā)揮著重要作用。隨著技術(shù)的發(fā)展,芯片制程已推進(jìn)至28nm、14nm乃至
發(fā)表于 04-24 14:27
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一般的 10% 起點(diǎn),也好于此前同制程產(chǎn)品的不足 20%。
一位半導(dǎo)體業(yè)內(nèi)人士解釋道,“初始測(cè)試生產(chǎn)良率達(dá)到40%是一個(gè)不錯(cuò)的數(shù)字,我們可以立即開(kāi)展業(yè)務(wù)”,并補(bǔ)充道,“通常,(代工流程良率)從10
發(fā)表于 04-18 10:52
此前,4月4日至6日,第28屆哈佛大學(xué)中國(guó)論壇成功舉辦。聞泰科技半導(dǎo)體業(yè)務(wù)(安世半導(dǎo)體)董事長(zhǎng)兼CEO張學(xué)政受邀出席論壇,并在“智能時(shí)代的變革與未來(lái)”分論壇上發(fā)表精彩觀點(diǎn),與行業(yè)領(lǐng)袖共
發(fā)表于 04-09 11:39
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評(píng)論