LED 芯片退火合金爐屬于真空爐的一種, 需要在真空環境下實現 LED 芯片的退火, 合金, 濕氧氧化, 歐姆電極燒結等工藝. 腔體真空度一般在 10-3 至 10-6 hPa 之間, 上海伯東德國 Pfeiffer 分子泵憑借大抽速,高穩定性廣泛應用于退火合金爐設備.

分子泵在真空爐中的作用
在真空爐中, 工件受到加熱, 真空泵負責產生低含氧量的氣體環境. 這可防止工件氧化. 取決于真空爐類型, 真空的效用可能各不相同. 在真空燒結中, 真空可改善工件的表面質量和實現脫粘工藝; 在真空釬焊中, 真空可產生脫氣效果, 從而提高焊縫的硬度和質量; 在真空硬化中, 真空可防止變形, 由此同樣可改善表面質量. 此工藝的另一項優點, 是可以在硬化過程之后直接氮化. 對于每種工藝, 都有必要在定義的時間內達到工藝壓力. 上海伯東德國 Pfeiffer 分子泵短抽空時間可以由此提高企業產能, 同時抽空過程還有去除不希望物質（例如氫）這一重要作用.

推薦分子泵型號:
上海伯東 Pfeiffer 分子泵抽速 10-1900 l/s, 高氣流量, 高抽速,占用空間小, 方便系統集成.

上海伯東德國 Pfeiffer 渦輪分子泵HiPace 系列獲得 Semi S2, UL, CSA 和 Nema 12 認證. 為高真空應用提供解決方案, 適用于質譜分析, 電子顯微術, 測量技術, 粒子加速和等離子體物理方面的應用. 除了用于分析, 真空工藝和半導體技術外, 還可用于真空鍍膜, 研發以及工業領域.