電子發(fā)燒友網(wǎng)報(bào)道(文/梁浩斌)今年以來國內(nèi)的SiC產(chǎn)業(yè)進(jìn)展神速,除了上游廠商陸續(xù)放出8英寸襯底的進(jìn)展之外,還有多家襯底廠商與海外半導(dǎo)體巨頭簽下供應(yīng)協(xié)議。上個(gè)月,國內(nèi)SiC襯底龍頭天岳先進(jìn)展示了一種新的SiC晶體制備技術(shù)。
成本低質(zhì)量還高,液相法會(huì)是未來SiC降本的核心?
目前SiC單晶制備主流都是通過物理氣相傳輸PVT法生長,核心的步驟包括將SiC粉料進(jìn)行高溫加熱,加熱后SiC粉料升華成氣體,氣體移動(dòng)到籽晶表面緩慢生長成晶體。
但問題也顯而易見,PVT法生長SiC單晶的速度太慢了,因?yàn)槭抢霉腆w升華在籽晶表面生長材料,一般生長出20mm厚的晶體需要7天時(shí)間。
這也是過去SiC襯底價(jià)格居高不下的主要原因,實(shí)際上目前行業(yè)中8英寸的SiC晶體也是通過多次擴(kuò)徑生長制備的。
近年來SiC產(chǎn)業(yè)隨著新能源市場(chǎng)的需求而進(jìn)入爆發(fā)增長期,SiC降本增效的需求更加急切,特別是PVT技術(shù)由于原理上難以實(shí)現(xiàn)降本以及快速大量制備SiC晶體,所以業(yè)界也開始將目光重新投向液相法。
為什么是“重新投向”?因?yàn)橐合喾ㄓ糜谥苽銼iC的研究,在20世紀(jì)60年代要相比PVT法更受歡迎,不過由于PVT法在70年代后取得突破,從而逐漸成為主流的技術(shù)。
而如今因?yàn)镻VT技術(shù)在大尺寸SiC晶體以及降低制造成本的問題上遭遇瓶頸,液相法又成為業(yè)界正在攻克的方向,可謂風(fēng)水輪流轉(zhuǎn)。
天岳先進(jìn)這次展示的正是液相法制備SiC技術(shù),天岳先進(jìn)表示,近期公司采用液相法制備出了低缺陷的8英寸晶體,通過熱場(chǎng)、溶液設(shè)計(jì)和工藝創(chuàng)新突破了碳化硅單晶高質(zhì)量生長界面控制和缺陷控制難題,在業(yè)界屬于首創(chuàng)。
作為SiC產(chǎn)業(yè)最核心的環(huán)節(jié)之一,襯底制備擁有極高的技術(shù)門檻和生產(chǎn)周期,如果液相法能夠在SiC襯底制備環(huán)節(jié)成功推廣,那么將會(huì)在SiC晶體尺寸、厚度、品質(zhì)等這幾個(gè)方面能夠保持相同甚至更高水平的同時(shí),大大提高產(chǎn)能。
還有這些問題有待突破
盡管目前國內(nèi)外都有不少廠商以及團(tuán)隊(duì)在研究液相法制備SiC,但都未正式實(shí)現(xiàn)相關(guān)技術(shù)的產(chǎn)業(yè)化,其中的原因是液相法還存在不少的技術(shù)問題。
根據(jù)人工晶體學(xué)報(bào)的資料,液相法制備SiC目前主要面臨四個(gè)方面的問題。首先是需要平衡生長速率和結(jié)晶質(zhì)量,如果生長速率太大,會(huì)容易出現(xiàn)多種嚴(yán)重影響結(jié)晶質(zhì)量的缺陷,嚴(yán)重時(shí)可能引起晶體開裂。
目前液相法的工藝中會(huì)以高純石墨坩堝作為容器的同時(shí),還作為SiC晶體生長中C元素的來源,而隨著晶體的生長,坩堝內(nèi)壁也會(huì)不斷被腐蝕,從而可能影響晶體生長的環(huán)境。因此如何建立持續(xù)穩(wěn)定的晶體生長條件就非常關(guān)鍵。
由于生長溫度高,測(cè)試難度大,在液相法生長SiC單晶的過程中,對(duì)高溫溶液的凝固點(diǎn)、表面張力、黏度等熱力學(xué)參數(shù)還未明確。因此未來研究以及掌握這些參數(shù)以及控制這些參數(shù)的方式是液相法制備SiC進(jìn)一步發(fā)展的重要方向。
最后,是如果實(shí)現(xiàn)精細(xì)化的動(dòng)態(tài)調(diào)控。這需要更加精準(zhǔn)的監(jiān)測(cè)技術(shù)以及控制技術(shù),在了解各種參數(shù)對(duì)晶體生長的影響后,通過控制各項(xiàng)參數(shù)來提高晶體質(zhì)量以及量產(chǎn)一致性。
小結(jié):
除了天岳先進(jìn),國內(nèi)的常州臻晶也是專門開發(fā)SiC液相法晶體的公司,目前該公司采用液相法生長的P型襯底,良率從50%提高到75%,長晶銷量提升2-5倍。常州臻晶目前的產(chǎn)品同樣處于研發(fā)階段,布局了6-8英寸的SiC襯底產(chǎn)品,預(yù)計(jì)6英寸產(chǎn)品將在今年下半年向客戶送樣,明年9月實(shí)現(xiàn)產(chǎn)業(yè)化。
在液相法接近產(chǎn)業(yè)化的同時(shí),SiC的降本節(jié)奏或許也將迎來新的拐點(diǎn)。
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