光電導材料

光電導材料是指光照下呈現(xiàn)電導急劇增加的材料，廣泛用于靜電復印、靜電制版、全息照相、激光打印等領域。主要的光電導材料有硒系光電導材料、有機光電導材料和無定形硅系列光電導材料。

光敏電阻材料

光敏電阻材料是光照下電導率能發(fā)生改變的物體。在光敏電阻材料中，除了晶體結構外，禁帶寬度對其性能影響甚大。光敏電阻是均質型半導體光電器件，選用禁帶寬、遷移率大的N型半導體可獲得大的增益。

光敏電阻通常采用蒸發(fā)的方法制得0.3~1μm大小的晶粒聚合而成的1μm厚的多孔結構。常用光敏電阻材料有硫化鉛、碲化鉛、砷化鉛、硫化鎘、銻化銦等。單晶型硫化鎘對可見光及X、α、β和γ射線都很靈敏。但受單晶層尺寸限制，光電流容量小。多晶型硫化鎘可制成光電流大和光譜靈敏范圍較寬的光敏電阻，但響應時間較長。硒化鎘比硫化鎘的光譜靈敏范圍大，響應速度快，但低溫性能較差。

審核編輯黃昊宇