摘要

公開了一種用于濕法處理襯底的設備和系統，其可用于化學處理，例如蝕刻或清洗半導體襯底。該設備具有處理室，在該處理室中濕法處理襯底。處理液通過開口和噴嘴注入處理室，基板漂浮在注入的液體中并通過注入的液體流圍繞其中心軸旋轉。濕處理系統由上述處理設備、文章全部詳情：壹叁叁伍捌零陸肆叁叁叁通過水流傳送基材的水承載系統和旋轉干燥器組成。承水系統還用作洗滌設備。

發明領域

本發明涉及一種用于濕法處理的設備或系統，特別是用于半導體器件制造中的襯底的清洗或蝕刻工藝。本發明提供一種連續一個接一個地處理基板的設備和系統。

現有技術的描述

在半導體制造中，有許多濕法工藝，例如基板的清洗和蝕刻。對于這樣的工藝，已經使用了批量工藝，其中將多個基板放置在桶中并在籃中蝕刻，或者將基板放置在架子上并浸入蝕刻劑中。在這種批量處理中，難以精確控制蝕刻，因為在桶中的蝕刻劑被水替換或從蝕刻劑中取出支架并浸入水中期間，基板的蝕刻繼續進行。此外，難以均勻地處理表面，因為當基板從蝕刻劑中提起時蝕刻劑會從基板的一側滴下。

發明內容

本發明的主要目的是提供一種可連續處理基材的濕法處理裝置。

本發明的另一目的在于提供一種可同時處理基板兩面的濕法處理裝置。

本發明的另一個目的是提高在待處理基材表面上濕法處理的準確性和均勻性，并提高產量。

本發明的又一目的是提供一種系統fbr濕法處理，該系統可以一個接一個地連續處理基材。

本發明的上述目的通過提供一種設備來實現，該設備用用于濕法處理的液體流來處理基板?；屙樦幚硪毫飨蛳铝鲃?，并被處理液的噴射流旋轉。將處理液傾倒或噴灑在基材表面上，從而使基材的兩面得到均勻處理。

處理完成后，將處理液切換為純水，基板由水流一一輸送，如同輸送系統。當基材沿著輸水器（或承水）前進時，基材被噴灑在其上的水清洗和清潔。

在水軸承的末端，有一個旋轉干燥器?；奈挥谛D干燥器的卡盤上。當基材定位后，百葉窗關閉并將旋轉干燥器與洗滌區分開。然后將旋轉干燥器中的水抽出，干燥器的卡盤固定基材，并開始旋轉。因此，基板被快速干燥。

審核編輯：符乾江