2021年9月16-18日，第 23 屆中國國際光電博覽會在深圳國際會展中心（寶安新館）盛大舉辦，全球3000多家光電企業攜創新技術及產品向業界閃耀發布。大會自1999年創辦以來，逐漸發展為頗具規模和影響力的光電產業綜合性會展，是光電企業、科研院所及高校進行市場拓展、品牌推廣、資源對接的重要平臺。

作為百年光學企業，奧林巴斯受邀出席此次盛會。在精密光學展、鏡頭及攝像模組展等主題展區，奧林巴斯搭建大型展臺，重磅展出DSX1000光學數碼顯微鏡、USPM-RU-W近紅外顯微分光測定儀、OEM顯微鏡組件多款工業產品及光電行業解決方案，與光電行業交流和共享前沿成果，助推光電產業在我國飛速發展。

奧林巴斯展位

精準觀察分析，故障無處可匿

在光電產品開發生產、質量檢測與控制、微小故障檢查等領域，工業顯微鏡的應用越來越廣泛。奧林巴斯DSX1000光學數碼顯微鏡將光學技術與數字技術融為一體，可滿足各種觀察和分析需要，快速進行宏觀至微觀的觀測調換。

憑借性能優勢，本次展會上奧林巴斯DSX1000光學數碼顯微鏡吸引了不少觀眾體驗。在檢測過程中，DSX1000光學數碼顯微鏡的電動變焦光路結合了先進的觀察功能，可一鍵式切換明場、暗場、MIX、偏光、斜射、微分干涉六種觀察方法，增強對比度，即使細微之處的缺陷劃痕也可輕松查看。DSX1000光學數碼顯微鏡還可實現多種樣品的觀察，顯微鏡頭部和載物臺都可以旋轉±90°，無論是微小樣品還是大型樣品的觀察和分析都更易于實現。同時，其配備的遠心光學系統降低了在整個放大范圍內的圖像失真率，實現了準確度和重復性的高精度測量。

觀眾體驗奧林巴斯DSX1000光學數碼顯微鏡

優化光學設計，助力設備研發

在不斷創新光學工業產品的同時，奧林巴斯在光電行業解決方案領域也持續發力，推出OEM顯微鏡組件，形成一套自有的定制解決方案，滿足特殊設備的設計需求。

當光學工程師和儀器設計師要為緊湊型設備設計更短光學系統時，定制解決方案則有200多種物鏡、鏡筒透鏡和相機適配器以供選擇，帶來更大的便利性。一旦在設備設計過程中，遇到特殊項目需求，模塊化系統則可根據需求變化進行設計更新，而無需從整體上重新設計。

OEM顯微鏡組件定制解決方案

比如，奧林巴斯UIS2物鏡，體積緊湊輕巧，齊焦距離均為45 mm，跟鏡筒透鏡單元均采用無補償（獨立校正）透鏡設計。特別是二者組成的光學組件在設備設計中，即便與市售透鏡組件配合使用也能確保整個視場內的圖像質量均勻。同時，X Line物鏡擁有更大的數值孔徑、更好的圖像平場性、更寬的色彩校正范圍，加之對成像圖像與理想圖像的偏差控制，使得成像更接近于理想狀態。

奧林巴斯UIS2物鏡、X Line物鏡

強悍分光特性，不懼測定難題

此外，奧林巴斯展出的USPM-RU-W近紅外顯微分光測定儀，受到了光電分析檢測領域專業人士的關注。相比傳統的分光光度計存在無法測量光學元件、微小電子部件等缺陷，USPM-RU-W近紅外顯微分光測定儀將測定波長擴大至380nm~1050nm，高效測定可視光區域至近紅外區域的各種分光測定任務。

USPM-RU-W近紅外顯微分光測定儀，采用新設計的非接觸測定的專用物鏡，可在φ17μm-70μm區域測定，實現細小電子部件或鏡片等曲面的測定；平面光柵和線傳感應器同時進行波長和分光測定，實現了高速測定。另外，USPM-RU-W近紅外顯微分光測定儀在專用物鏡與環形照明相結合下，無需在被檢測物的背面進行防反射處理，就可測定最薄0.2mm的反射率。USPM-RU-W近紅外顯微分光測定儀還可通過設置規格值，判定反射率、色度圖的合格與否，方便檢測人員進行檢測操作。

USPM-RU-W近紅外顯微分光測定儀

在此次展會中，奧林巴斯通過先進的產品技術和創新的解決方案，展現了在光電領域的突破與改變。隨著向中國制造2025 “從工業大國到工業強國”戰略目標的進一步邁進，奧林巴斯將依托自身優勢與經驗，繼續堅持創新、開拓進取，積極推動中國光電產業發展，為中國建設工業強國做出貢獻。
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