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怎樣去設計一種基于諧振腔的雙頻可控帶通濾波器?

MEMS ? 來源:《固體電子學研究與進展 ? 作者:張勝,佘金川,仝 ? 2021-07-04 09:27 ? 次閱讀
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引言

隨著微波系統的快速發展,微波濾波器通信傳輸系統中起著越來越重要的作用。近年來,基片集成波導(Substrate integrated waveguide,SIW)由于低損耗、高Q值和易于集成的優勢,被廣泛應用于微波器件多頻帶通濾波器的設計中,但仍然面臨傳統SIW尺寸過大的困擾。因此,疊層技術、半模和四分之一模技術被應用到小型化多頻SIW帶通濾波器的設計當中,但濾波器通帶可控性不夠理想。另外,加載金屬通孔擾動和刻蝕槽線擾動的技術被應用到小型化多頻可控SIW帶通濾波器的設計當中,但濾波器的頻率選擇性并沒有被充分考慮。

綜上,為了實現多頻SIW 帶通濾波器的小型化、通帶的可控性以及高頻率選擇性,本文根據菱形基片集成波導(Rhombic SIW,RSIW)諧振腔獨特的電場分布,通過切割磁壁獲得了一種四分之一模菱形基片集成波導(Quarter?moderhombus SIW,QMRSIW)諧振腔。QMRSIW諧振腔不僅保留了原諧振腔中TM110和TM310諧振模式的電場分布和頻率特性,而且大大減小了諧振腔的尺寸,進而根據QMRSIW諧振腔的電場分布和頻率特性,設計了一款小型化雙頻可調帶通濾波器。在該設計中,通過引入T型槽線,濾波器的通帶諧振頻率可以被調節并降低,進一步減小了濾波器的尺寸。同時,通過帶隙耦合,高低階模式耦合和源負載耦合,在阻帶內產生了多個傳輸零點(Transmission zeros,TZs),提高了濾波器的頻率選擇特性。

1、QMRSIWR分析

圖1(a)?(d)分別為菱形SIW諧振腔中TM110、TM210、TM120和TM310模式的電場分布。RSIW諧振腔由菱形波導演化而來,其諧振頻率由菱形波導傳輸模式的迭代而成。因此,利用最小二乘技術,基于RSIW諧振頻率與菱形邊長二者之間大量的仿真數據,主模諧振頻率的經驗公式如下:

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式中:c為真空中的光速,μr為介質材料的磁導率,εr為介質材料的相對介電常數,L是RSIW諧振腔體的邊長。如表1所示,仿真值與計算值的諧振頻率幾乎一致。

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圖1 RSIW的電場分布圖: (a) TM110; (b) TM210; (c) TM120; (d) TM310

根據RSIW 諧振腔電場模式沿對角線對稱分布的特性,沿圖1(a)中RSIW等效磁壁(AA′和BB′)切割,可以得到四分之一模菱形基片集成波導(QMRSIW)諧振腔,諧振腔尺寸減少了75%。如圖2所示,QMSIW諧振腔中TM110和TM310式的電場分布與頻率特性和RSIW諧振腔中的基本一致,而TM210和TM120模式被有效抑制。同時,圖2(a)、(b)中TM110和TM310模式的電場都沿著磁壁OB 由O 到B 逐漸減小,因此,垂直于磁壁OB饋電,TM110和TM310模式可以同時被激勵作為第一和第二通帶,而被抑制的TM210和TM120模式可以形成一個寬阻帶。

表1 RSIW的諧振頻率

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圖2 QMRSIW的電場分布圖: (a) TM110; (b) TM310

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圖3 QMSIW中有無T型槽線的面電流分布: (a) 第一諧振點的面電流; (b) 第二諧振點的面電流

圖3展示了被有效激勵的QMRSIW諧振腔,并對比了未刻蝕和刻蝕T 型槽線諧振腔在第一和第二諧振點的面電流分布。圖3(a)中,在第一通帶被激勵的條件下,T型槽的L1和L2枝節對面電流有較強的擾動,面電流不能沿著最短路徑流動,諧振腔的等效電長度增加,第一通帶諧振頻率f1降低;而L3枝節對面電流沒有影響,因此第一通帶諧振頻率f1不受L3枝節影響。圖3(b)中,在第二通帶被激勵的條件下,T型槽的L1和L3枝節對面電流有較強的擾動,面電流不能沿著最短路徑流動,諧振腔的等效電長度增加,第二通帶諧振頻率f2降低,而L2枝節對面電流幾乎沒有影響,第二通帶諧振頻率f2幾乎不受L2枝節影響。因此,刻蝕T型槽的QMRSIW諧振腔有效降低了雙通帶諧振頻率,進一步實現了諧振腔的小型化。

圖4 為調節T 型槽線不同枝節長度對中心頻率的影響。如圖4(a)所示,當僅增加T型槽線L1枝節長度,L2和L3枝節長度不變時,第一和第二通帶諧振頻率f1和f2同時下降。如圖4(b)所示,當僅增加T型槽線L2枝節長度,L1和L3枝節長度不變時,第一通帶諧振頻率f1下降,而第二通帶諧振頻率f2僅發生輕微變化。如圖4(c)中,當僅增加L3枝節長度,L1和L2枝節長度不變時,僅第二通帶諧振頻率f2下降。因此,引入T型槽線可以同時或獨立調節第一和第二通帶中心諧振頻率。

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圖4 T型槽線不同枝節對中心頻率的調節: (a) L1; (b) L2; (c)L3

2、濾波器設計

基于這種刻蝕了T型槽線的QMRSIW諧振腔,選用介質為Rogers RT/ duroid 6006(εr =6.15,μr = 1,tanδ = 0.019)、厚度h為0.635mm的基板設計了一款小型化雙頻帶通濾波器。兩極點低通切比雪夫原型的元件值如下:g0 =1.0000,g1=0.4489,g2=0.4078,g3=1.1008,通帶紋波LAr=0.01 dB。由于本文采用對稱的濾波網絡結構,因此,g0=g3=1.0000,g1=g2=0.4489。根據設計指標,第一通帶中心頻率為4.4 GHz,帶寬為510MHz;第二通帶的中心頻率為7.7 GHz,帶寬為415MHz。相對帶寬FBW、耦合系數Mi,i + 1和外部品質因數Qe 的計算公式如下:

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其中,Δf為帶寬,f0為中心諧振頻率。為了對應設計指標,耦合系數M12和外部品質因數Qe可以從仿真中抽取出來,公式如下:

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其中,f1和f2分別為上下邊頻的諧振頻率,f0為中心諧振頻率,Δf±90°為相對f0相移±90°的頻率。綜合計算的Mi,i + 1、Qe和仿真的M12、Qe值,就可以設計一個雙頻帶通濾波器。如圖5(a)所示,50 Ω微帶線用于匹配QMRSIW 諧振腔,耦合帶隙用于級聯兩個諧振腔,從而形成第一和第二通帶。如圖5(b)所示,未刻蝕T型槽線的濾波器僅在下阻帶通過間隙色散耦合產生一個傳輸零點。刻蝕T型槽線的濾波器不僅降低了雙通帶的諧振頻率,而且通過高低階模式耦合,在通帶間和上阻帶產生了兩個額外的傳輸零點,但頻率選擇性仍然不夠理想。

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圖5 (a) 濾波器原型; (b) 有無槽線的S21響應

為了進一步提高濾波器的頻率選擇性,圖6(a)中引入平行的微帶線來實現源負載耦合。耦合方案的拓撲如圖6(b)所示,實線與虛線分別表示正耦合和負耦合,相位相反的傳輸路徑通過耦合產生傳輸零點,從而提高濾波器的頻率選擇特性。

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圖6 (a) 具有源負載耦合的濾波器; (b) 耦合方案的拓撲圖

最終為了達到設計指標,仿真優化的濾波器尺寸如表2所示。

表2 QMSIW 濾波器的尺寸(mm)

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3、加工測試

圖7展示了雙頻SIW帶通濾波器的實物圖以及S參數的測試和仿真結果。濾波器的第一通帶中心頻率為4.4 GHz,帶寬為517 MHz,帶內回波損耗低于18 dB,最小插入損耗為1.5 dB;第二通帶中心頻率為7.7 GHz,帶寬為405 MHz,帶內回波損耗低于20 dB,最小插入損耗為1.8 dB。達到了設計指標。同時,間隙耦合、高低階模式耦合和源負載耦合共產生了7個傳輸零點(TZ1 ?TZ7),極大改善了濾波器的頻率選擇特性。受加工精度和測量誤差影響,測量和仿真結果存在一些偏差,但兩者基本吻合。

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圖7 S參數的仿真和測試結果

表3為本文提出的濾波器與已發表濾波器的性能比較,從表中可以看出本文的濾波器具有尺寸緊湊、中心頻率可調和頻率選擇性高的優點。

表3 雙頻SIW 帶通濾波器性能比較

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4、結論

提出了一種四分之一模菱形基片集成波導諧振腔,并且基于這種諧振腔設計了一款雙頻可控帶通濾波器,相比于傳統諧振腔雙頻濾波器的尺寸減小了75%。刻蝕了一種T型槽線結構,實現了濾波器雙通帶中心頻率可調。同時使用了間隙耦合、高低階模式耦合和源負載耦合,在帶外產生了七個傳輸零點,大大提高了帶外抑制效果。該濾波器具有小尺寸、中心頻率可調和高頻率選擇性的特點,可應用于微波平面電路的集成設計中。

責任編輯:lq6

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原文標題:基于菱形SIW的小型化雙頻可控帶通濾波器

文章出處:【微信號:MEMSensor,微信公眾號:MEMS】歡迎添加關注!文章轉載請注明出處。

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