3月10日，眾鴻半導體項目簽約儀式在臨港產業區舉行，該項目將推動眾鴻涂膠顯影設備實現量產。

加速12英寸涂膠顯影設備量產進度

據了解，眾鴻是在半導體集成電路設備制造領域涉獵設備再制造、軟硬件優化產能提升、核心配件維修等服務，其核心產品是專用光阻涂膠顯影設備。該設備主要應用于Si、化合物半導體GaAs/ GaN/SiC等集成電路制造領域。目前，眾鴻的合作客戶有中芯國際、臺積電、 三安集成、積塔半導體、華潤上華、長電科技、通富微、塞萊克斯等公司。

此次簽約之后，眾鴻半導體將在臨港產業區鉆石園8-2廠房進行設備的批量生產使用。

根據規劃，2019年，眾鴻已經在臨港產業區新僑產業園注冊成立研發中心；2020-2022年，眾鴻自研涂膠顯影設備將研發完成并實現量產。此次在臨港產業區鉆石園新增的生產廠房，將作為眾鴻設備量產基地使用。2021-2023年，眾鴻將依次量產12英寸涂膠顯影設備和其他半導體設備。

半導體設備國產化勢在必行

據悉，涂膠顯影設備是光刻工藝主設備之一，也是芯片制程中必不可少的處理設備。它利用機械手實現晶圓在各系統間的傳輸和加工，與光刻機達成完美配合從而完成晶圓的光刻膠涂覆、固化、顯影等工藝過程。作為晶圓加工環節的重要工藝設備，涂膠顯影設備在晶圓廠設備采購中占據重要地位。

2016年，中國（含臺灣地區）前道涂膠顯影設備的銷售額約為8.57億美元，預計該數字將在2023年達到10.26億美元。不過，如今中國大陸地區的前道晶圓加工領域中的涂膠顯影設備，主要由日本東京電子所生產。具體來看，目前在中國大陸的涂膠顯影設備市場中，日本東京電子的市占率大于90%，而國內廠商的市占率僅為4%。

值得注意的是，《中國制造2025》中針對國產半導體制造設備提出了明確要求：在2020年結束之前，90-32nm工藝設備國產化率達50%，實現90nm光刻機國產化、封測關鍵設備國產化率達50%；在2025年結束之前，20-14nm工藝設備國產化率達30%，實現浸沒式光刻機國產化。在經濟上，啟動了國家集成電路基金二期，計劃針對集成電路行業注入2,000億元資金。

在此背景下，眾鴻半導體項目在臨港產業區的新動態，受惠于優惠政策的扶持，也反應了我國半導體設備企業自身的努力。期待半導體設備的國產化進程進一步提升。

編輯：jq