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制造高端芯片的兩大難點被攻破

我快閉嘴 ? 來源:考拉科技館 ? 作者:考拉科技館 ? 2020-12-22 17:15 ? 次閱讀
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終于突破了,中國芯傳來好消息,制造高端芯片的兩大難點被解決!

截至2019年,我國芯片自給率僅有30%。

這意味著,國內(nèi)超過70%的芯片,都是通過進口渠道獲得,這是一個相當(dāng)可怕的數(shù)據(jù)。70%的芯片都需要進口,這揭示出兩個讓人無奈的事實。第一,我國每年需要拿出一大筆錢對外購買芯片;第二,我們隨時都面臨著被斷供芯片的危機。

而更糟糕的是,現(xiàn)在第二個事實已經(jīng)在部分中企身上應(yīng)驗了。美國之所以對華為實行芯片斷供,就是因為其看到了我國在芯片制造領(lǐng)域的巨大短板。

必須要解決國內(nèi)芯片領(lǐng)域的短板!

不然,華為今天的遭遇,將會原封不動地降臨到其他中國企業(yè)身上。

值得慶幸的是,華為今天的遭遇,已經(jīng)引起我們國家重視。在今年8月,國家出臺了多項扶持國內(nèi)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的政策,同時,國家還定下計劃,在2025年,中國芯片自給率必須要達(dá)到70%。

五年時間,讓國內(nèi)芯片的自給率從30%飆升至70%,這是一個相當(dāng)大的目標(biāo),也很不好實現(xiàn)。當(dāng)然,不好實現(xiàn),并不意味著不可能實現(xiàn)。特別是,近段時間國內(nèi)半導(dǎo)體公司頻頻傳來捷報,更是助長了全體國人的信心。

就在本月,中國芯傳來好消息!終于突破了,制造高端芯片的兩大難點被中國成功解決!

先說高端芯片制造的第一大難點:在芯片制造過程中,光刻膠是不可或缺的材料。而以往,國內(nèi)只能制造生產(chǎn)低端芯片的光刻膠,而生產(chǎn)高端芯片所需的光刻膠,則幾乎都被日韓半導(dǎo)體企業(yè)所壟斷。

這就導(dǎo)致,如果我國想制造高端芯片,那就必須向日韓光刻膠制造商購買,而只能對外采購,無疑會極大地降低中國芯的抗風(fēng)險能力。值得欣慰的是,現(xiàn)在高端光刻膠的問題終于突破了!

就在幾天前,寧波南大光電發(fā)布重要公告,內(nèi)容大意是:該司生產(chǎn)的高端ArF光刻膠已經(jīng)通過各項測試,良品率達(dá)標(biāo)。據(jù)介紹,南大光電此次通過測試的ArF光刻膠,可以用于90nm-7nm技術(shù)節(jié)點的集成電路制造工藝。

可用于90nm-7nm工藝,這意外著,后續(xù)我國在生產(chǎn)高端芯片時,無需再擔(dān)心沒有自主可控的高端光刻膠可用的問題。

而除了實現(xiàn)高端光刻膠國產(chǎn)化的目標(biāo)外,在高端芯片封測的這一大難題上,我們也終于取得突破!可能有人還不了解,芯片制造的最后環(huán)節(jié),就是封測。而封測技術(shù)的強弱,則將決定一顆芯片是否好用。

特別是高端芯片,封測步驟更是至關(guān)重要,也是一大難點!而在此之前,國內(nèi)企業(yè)掌握的封測技術(shù),都較為低端,無法用于高端芯片。

但如今,國內(nèi)的歐菲光集團正式傳來好消息,該司已成功研發(fā)半導(dǎo)體封裝用高端引線框架。據(jù)悉,這一次歐菲光集團研發(fā)的“引線框架”,就是一種較為先進的封測技術(shù),可用于高端芯片的封測!

一個月之內(nèi)傳來兩個有關(guān)高端芯片制造的捷報,不少國內(nèi)網(wǎng)友也是感慨道:越來越有信心了,照這個速度,等到了2025年,我們還真的有可能實現(xiàn)芯片自給率達(dá)到70%的目標(biāo)。

事實上,這并非網(wǎng)友盲目樂觀,因為在上述兩家國內(nèi)半導(dǎo)體公司傳來突破的消息之前,中芯國際還傳來一個重磅消息,其研發(fā)的N+1芯片制程工藝已經(jīng)成功流片。

而根據(jù)測試,用中芯國際N+1工藝制造的芯片,整體水準(zhǔn)與臺積電生產(chǎn)的7nm芯片相當(dāng)接近。

解決了高端光刻膠、高端芯片封測技術(shù)這兩個大難題,再加上中芯國際也已經(jīng)可以制造水平接近臺積電7nm的芯片。

這意味著,我國已經(jīng)初步具備生產(chǎn)高端芯片的基礎(chǔ)。后續(xù)隨著這三家的技術(shù)進一步完善,五年后,我國確實有望實現(xiàn)芯片自給率達(dá)到70%的目標(biāo)。

而美國的封鎖,也將不攻自破!
責(zé)任編輯:tzh

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