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中芯國際:美國新規對10nm及以下先進工藝研發有重大不利影響

璟琰乀 ? 來源:搜狐科技 ? 作者:梁昌均 ? 2020-12-21 09:26 ? 次閱讀
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中芯國際 12 月 20 日晚間發布說明公告稱,公司被列入 “實體清單”后,根據美國相關法律法規的規定,針對適用于美國《出口管制條例》的產品或技術,供應商須獲得美國商務部的出口許可才能向公司供應;對用于 10nm 及以下技術節點(包括極紫外光技術)的產品或技術,美國商務部會采取 “推定拒絕”(Presumption of Denial)的審批政策進行審核;同時公司為部分特殊客戶提供代工服務也可能受到一定限制。

在說明公告中,中芯國際表示,經初步評估,該事項對公司短期內運營及財務狀況無重大不利影響,對 10nm 及以下先進工藝的研發及產能建設有重大不利影響。公司將持續與美國政府相關部門進行溝通,并視情況采取一切可行措施,積極尋求解決方案,力爭將不利影響降到最低。

值得一提的是,有媒體報道稱,在中芯國際新任副董事長蔣尚義的幫助下,中芯國際將尋求與荷蘭半導體設備公司阿斯麥(ASML)就 EUV 光刻設備進行談判。中芯國際一直難以從阿斯麥獲得 EUV 光刻設備,盡管阿斯麥在法律上不受某些約束條件的影響,但仍存顧慮。

責任編輯:haq

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