5月29日消息，提到荷蘭ASML公司，大家都知道他們是全球唯一的EUV光刻機供應商，7nm及以下的工藝生產都要靠他們的設備。不過ASML不只是光刻機厲害，今天他們宣布了另外一個新產品——第一代HMI多光束檢測機HMI eScan1000，適用于5nm及更先進工藝，使得產能大漲600%。

隨著制程工藝不斷提升，晶圓的制造也越來越復雜，這也會導致晶圓中的錯誤更多，HMI eScan1000就是一套基于HMI多光束技術的檢測系統，內部也有復雜的光電子系統，能夠產生、控制多個電子束，然后根據反射回來的電子束成像來分析晶圓質量，并有高速運行的平臺以控制測試的晶圓數量，還要有計算系統處理電子束的數據。

簡單來說，ASML研發的這個HMI eScan1000機器就是一臺驗證先進工藝生產出來的晶圓質量的系統，工藝越先進，檢測系統就越重要，它的檢測精度、吞吐量決定了生產的效率。

ASML的HMI eScan1000的突破之處在于能夠同時產生、控制九道電子束，所以產能提升了600%，可以大大減少晶圓質量分析所用的時間。

作為制造芯片的核心器件，光刻機自然是重中之重，而一款性能出眾的光刻機也是制造高性能芯片的必要條件，而在光刻機領域尤其是高端光刻機，目前基本上被ASML所壟斷，而ASML也提供給包括英特爾、臺積電以及三星等晶圓代工廠提供最新的EUV光刻機。目前隨著技術的進步，越來越多的晶圓代工廠商開始研發和量產5nm工藝，如今ASML宣布將會采用全新的技術，從而讓5nm晶圓的產品成倍提升。

在業界，ASML壟斷了7nm及以下芯片制造的設備供應，全世界的芯片業巨頭、代工廠商都只能購買這家公司的設備，才能給全世界帶來最頂級的芯片產品。而伴隨著制程工藝的持續提升，晶圓制造的過程也愈發復雜，生產過程中的錯誤也變得越來也多，而ASML剛剛發布的HMI eScan1000就是一套基于HMI多光束技術的高科技監測系統。

據了解，這套設備的內部擁有極其復雜的光電子系統，自身就能批量產生和控制電子束，然后根據反射回來得電子束成像來分析生產中得景園質量。另外，它還高速運行的平臺和計算系統，可以精確地控制與處理測試晶圓的數量、電子束的數據。

總得來說，ASML剛剛發布的這臺HMI eScan1000就是一臺頂級晶圓質量檢測系統。在芯片領域中，制造工藝越先進，對檢測系統的需求就越高，它的精度和吞吐量都會直接影響最終的生產效率。

值得一提的是，HMI eScan1000較以往取得了明顯的突破：它能同時產生和控制九道電子光束，可以直接提升產能達600%，大大減少了晶圓質量分析所耗費的時間成本。目前HMI eScan1000可以用于5nm及以下先進工藝的晶圓測試，已經交付給客戶進行測試驗證，未來ASML還會推出光束更多的測試設備以滿足客戶對先進工藝的要求。

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